Gebraucht NOVELLUS CONCEPT 2 Sequel Express #293798174 zu verkaufen
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ID: 293798174
Weinlese: 2002
CVD System, 8"
Wafer type: Notch / flat
Process: SION
Mag7 Robot vacuum
Single chamber
Light towers: RYG, 3-Color
Main frame: DLCM Express, 8"
Signal tower: Cool station
Dual load lock cassette module
No integrated SMIF ASYST LPI2200
No front-end option
Process chamber A:
Process type: SION
High frequency RF Generator: RFG5500
Low frequency RF Generator: PDX1400
Gate and throttle valve
End point detector
Manometers: 10 / 1000 TORR MKS
Ferrofluidic spindle
Clean process: IN-SITU
Gas box:
Gas / MFC Size (SCCM)
C2F6 / 5000
PH3 / 1000
O2 / 5000
SIH4 / 1000
NH3 / 3000
N2O / 10000
N2 / 10000
N2 / 5000
Heater
Shower head
Gas box exhaust
2002 vintage.
NOVELLUS CONCEPT 2 Sequel Express ist ein hochmoderner Multifunktionsätz- und Abscheidungsreaktor für die Verarbeitung fortschrittlicher Halbleiterbauelemente. Dieses batchbasierte PECVD-fähige Tool bietet eine vielseitige und kostengünstige Plattform für die Waferbearbeitung. CONCEPT 2 Sequel Express basiert auf dem revolutionären Konzept „Hot Wall“, das eine integrierte Kammerreinigung, Quarzwandaktivierung und Abscheidung in einem Reaktor ermöglicht. Das Hot Wall-Design bietet einen hohen Durchsatz und kostengünstigen Ansatz für die Prozessoptimierung. Die hohe thermische Effizienz der Hot Wall sorgt für eine gleichmäßige Temperaturverteilung und schnelle Zykluszeiten. Der Sequal Express verfügt über eine Reihe von Funktionen, die es ermöglichen, sehr vielseitig zu sein, einschließlich Dual-Gas-Injektoren, Hochlinearheizungen, temperaturspezifische programmierbare Vorspannung und ein universelles Quellmodul. Die Dual-Gas-Injektoren sind so konzipiert, dass sie den Abscheidegasstrom präzise steuern und schnelle Zykluszeiten liefern. Die Heizungen mit hoher Linearität bieten eine verbesserte Temperaturregelung und bieten eine überlegene Ätz- und Abscheidungsleistung. Die temperaturspezifische programmierbare Vorspannung verbessert die On-Wafer-Leistung und hält die Gleichmäßigkeit über den gesamten Wafer aufrecht. Das universelle Quellmodul ermöglicht die Kompatibilität mit einer breiten Palette von Gasen und Materialien und ermöglicht eine Hochleistungs-Geräteherstellung auf unipolaren und bipolaren Substraten. NOVELLUS CONCEPT 2 Sequel Express verfügt auch über eine integrierte, fortschrittliche entlüftete Kammer, die entworfen ist, um eine optimale Umgebung in der Kammer zu erhalten, und gleichzeitig jede flüchtige organische Verbindung (VOC) Emissionen aus der Verarbeitungskammer zu minimieren. Die entlüftete Kammer ermöglicht auch eine schnelle, sichere Entfernung von Wasser und anderen Materialien aus der Kammer, wodurch eine minimierte Kontamination und Wartung hoher Durchsatzraten gewährleistet ist. Insgesamt ist CONCEPT 2 Sequel Express ein bahnbrechendes Werkzeug für die effiziente Verarbeitung fortschrittlicher Halbleiterbauelemente. Das Hot Wall-Design sorgt für schnelle thermische Gleichmäßigkeit und Zykluszeiten, während die Dual-Gas-Injektoren und andere erweiterte Funktionen Kompatibilität mit einer breiten Palette von Materialien und Gasen ermöglichen. Schließlich sorgt die entlüftete Kammer für minimierte VOC-Emissionen unter Einhaltung optimaler Betriebsbedingungen.
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