Gebraucht NOVELLUS CONCEPT 2 Sequel Express #9243045 zu verkaufen

NOVELLUS CONCEPT 2 Sequel Express ist ein Werkzeug für die CVD-Reaktortechnologie (Chemical Vapor Deposition). Es handelt sich um eine Einzelwafer-Kleinflächenausrüstung, die zum Abscheiden von Dünnschichtschichten auf Siliziumwafern und anderen Substraten verwendet wird. Das System verwendet fortschrittliche Prozesssteuerungsalgorithmen und Präzisionsabscheidungskopf- und Substratbewegungssysteme, um eine höhere Präzision, schnellere Zykluszeiten und verbesserte Durchsatzleistung zu erreichen. Mit dem CONCEPT 2 Sequel Express-Verfahren können verschiedene Dünnschichtmaterialien abgeschieden werden. Es ist mit einer Vielzahl von Prozessgasen ausgestattet, die Gleichmäßigkeit ermöglichen und die Ungleichmäßigkeit der abgeschiedenen Schicht minimieren. Zur Abscheidung von dielektrischen Folien, Metallisierungsschichten, Passivierungsschichten und Barriereschichten verwendet die Einheit eine Einwafer-, Mehrzonen-Hochdichteplasmaquelle (HDP). Der HDP-Prozess wird durch den Einbau eines Reaktantenstromfokussiermoduls (RFF) verstärkt, das eine unabhängige Steuerung des Antioxidationsgasstroms ermöglicht. Darüber hinaus ermöglicht das RFF-Modul die Erstellung von kundenspezifischen und vordefinierten Plasmaprofilen, wodurch die Abscheidungsqualität und die Kontrolle der Filmdicke verbessert wird. Die Maschine wird auch mit einer patentierten Substrat-Stufenbewegungssteuerung ausgestattet, die die Ungleichmäßigkeit auf dem Wafer verringern soll. Dieses Merkmal ermöglicht eine präzise Steuerung der Substratbewegung und Positionierung benachbarter Folien. Außerdem kann dem Substrat eine niederenergetische Vorspannung zugeführt werden, die ein gleichmäßiges Filmwachstum fördert. NOVELLUS CONCEPT 2 Sequel Express verwendet außerdem eine Vielzahl fortschrittlicher Prozesssteuerungen, um die Einheitlichkeit und Wiederholbarkeit der Prozesse zu verbessern. Es beinhaltet Technologien wie Substratneigungssteuerung und variable Substratvorspannung, die darauf ausgelegt sind, die Gleichmäßigkeit innerhalb und über den Wafer zu gewährleisten. Darüber hinaus verfügt das Tool über eine mehrfache In-situ-Reflexionsüberwachung, mit der Benutzer verschiedene Qualitäten wie Linienbreite, Gesamtdicke, Ätzrückstand und Abscheiderate messen können. CONCEPT 2 Sequel Express Modell ist ein leistungsfähiges CVD-Produktionswerkzeug für den Einsatz in der Halbleiterbauelementherstellung. Es verfügt über fortschrittliche Prozesssteuerungsalgorithmen und präzise Abscheidekopf- und Substratbewegungssysteme. Es ist in der Lage, eine Vielzahl von Dünnschichtmaterialien abzuscheiden, mit unabhängiger Steuerung des antioxidativen Gasflusses und einstellbarer Substratvorspannung. Darüber hinaus bieten seine fortschrittlichen Prozesssteuerungen und In-situ-Überwachungsgeräte eine verbesserte Prozessgleichförmigkeit und Wiederholbarkeit.