Gebraucht NOVELLUS CONCEPT 2 Sequel #9382778 zu verkaufen

NOVELLUS CONCEPT 2 Sequel ist ein Depositionsgerät der dritten Generation, das entwickelt wurde, um Präzision, Produktivität und Leistung für die Herstellung von Halbleiterbauelementen zu verbessern. Es handelt sich um einen hochentwickelten physikalischen Dampfabscheidungsreaktor (PVD), der entwickelt wurde, um mit dem unablässigen Tempo der kontinuierlichen Verbesserung in der Halbleiterindustrie Schritt zu halten. Das Zweikammerdesign von CONCEPT 2 Sequel besteht aus einer oberen PVD-Kammer und einer unteren Gasförderkammer. Die geschlossene PVD-Kammer ist eine maßgeschneiderte, auf Plasma basierende, leistungsoptimierte Kammer, während die untere Kammer mit einem Gaszufuhrsystem ausgestattet ist, das einen dynamischen Gasstrom zum Beschichtungsmaterial erzeugen kann. Um die Präzision und Genauigkeit zu maximieren, verwendet die proprietäre Kühltechnologie von NOVELLUS CONCEPT 2 Sequel eine Hochdruck-Turbulenz-freie Rezirkulationseinheit, um konstante Temperaturen aufrechtzuerhalten und die Gaskonvektion zu minimieren und gleichzeitig sehr wiederholbare Abscheidebedingungen bereitzustellen. CONCEPT 2 Sequel ist mit anspruchsvollen Funktionen ausgestattet, um eine konsistente und qualitativ hochwertige Filmabscheidung zu gewährleisten. Seine fortschrittlichen ablativen Prozesse verwenden kalibrierte und kontrollierbare Punktgrößenablation, um eine Musterfolgenauigkeit zu erreichen. Seine flexible Architektur und seine fortschrittlichen Messtechniken ermöglichen es dem Prozessor, Rezepte anzupassen, um die Filmbelastung und die Schrittabdeckung zu verbessern, und seine programmierte Impedanzabstimmung sorgt für konsistente und wiederholbare Ergebnisse. NOVELLUS CONCEPT 2 Sequel umfasst eine Vielzahl fortschrittlicher Prozesssteuerungsfunktionen, die die Prozessstabilität und Skalierbarkeit maximieren. Seine mehrseitige Wafer-Handhabungsmaschine bietet eine präzise Dreh- und Beschleunigungssteuerung für genaue Ausrichtung und Orientierung von Wafern. Es verfügt außerdem über ein hochautomatisiertes Substrathandhabungswerkzeug, eine Präzisionsstufe, einen Roboterarm zur Substratidentifikation und ein intelligentes In-situ-Modell für eine schnelle und genaue Diagnose. In die Ausrüstung integriert sind Funktionen zur sofortigen Prozesssteuerung in Echtzeit, einschließlich einer einzigartigen Endpunkterkennung. Diese Funktionen ermöglichen es den Betreibern, schnell auf Prozessänderungen zu reagieren und so den Durchsatz und Ertrag zu erhöhen, um den wirtschaftlichen Nutzen zu maximieren. CONCEPT 2 Sequel ist ein effektives und zuverlässiges Abscheidungssystem, das den anspruchsvollen Anforderungen der Halbleiterbauelementindustrie des 21. Jahrhunderts gerecht wird. Es wurde entwickelt, um Präzision, Produktivität und Leistung zu maximieren und durch Optimierung der Prozessstabilität und Skalierbarkeit höhere Kosten, Durchsatz und Erträge zu ermöglichen.