Gebraucht NOVELLUS CONCEPT 2 Sequel #9397737 zu verkaufen

NOVELLUS CONCEPT 2 Sequel ist ein Hochleistungs-Planarreaktorsystem mit mehreren Stationen, das eine fortschrittliche Prozessumgebung für Abscheidung, Strippen, Ätzen und andere Halbleiterherstellungsprozesse bietet. Dieser Reaktor umfasst eine integrierte planare Plasma-Reaktiv-Ionen-Ätzstation (RIE) und ist eine ideale Plattform für die Herstellung fortschrittlicher Gerätestrukturen. CONCEPT 2 Sequel im Kern ist eine große Metallbox, die eine Reihe verschiedener Komponenten enthält, die für die Bereitstellung von Prozessfunktionalitäten erforderlich sind. Es umfasst zwei Hauptverarbeitungskammern; eine HF-Plasmakammer und eine Magnetron-basierte Abscheidekammer. Es beinhaltet auch eine Mehrstationsebene RIE-Station. Diese Station kann zum Ätzen verschiedener Materialien auf der Waferoberfläche, wie Metalle, Metallfolien, Oxide und sogar Kunststoffe, verwendet werden. NOVELLUS CONCEPT 2 Sequel verfügt über vier verschiedene Verarbeitungskammern; eine Ätzkammer zum RIE-Ätzen, eine Abscheidungskammer zur chemischen Dampfabscheidung (CVD), eine Strippkammer zum chemischen Strippen organischer Materialien und eine chemisch-mechanische Polierkammer (CMP). In der RIE-Kammer treibt eine Hochfrequenz (RF) -Stromquelle die Plasmaerzeugung an, um Wafer mit sehr präziser Prozesssteuerung direkt zu ätzen. Die Magnetron-basierte Abscheidekammer enthält zwei Kathoden, von denen eine zur Erzeugung eines Gasplasmas verwendet wird, während die andere zur magnetischen Bindung von Partikeln im Plasma dient. Diese Art der Abscheidung ermöglicht eine Vielzahl von verschiedenen chemischen Prozessen, wie Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD) und Atomic Layer Deposition (ALD). CONCEPT 2 Sequel verfügt zudem über eine hochkonfigurierbare Bandkammer, die ein effektives Mittel zur Entfernung organischer Materialien aus Wafern liefert. Die CMP-Kammer verwendet eine Hochgeschwindigkeits-Flüssigkeitsslurry kombiniert mit einem Polierkissen, um Wafer mechanisch zu polieren, um unerwünschte Materialien zu entfernen und eine glatte, gleichmäßige Oberflächenqualität zu erhalten. Insgesamt ist NOVELLUS CONCEPT 2 Sequel ein fortschrittliches Hochleistungsreaktorsystem, das die Herstellung fortschrittlicher Gerätestrukturen ermöglicht. Mit seiner integrierten planaren Plasma-RIE-Station ist CONCEPT 2 Sequel in der Lage, verschiedene Abscheide-, Stripp-, Ätz- und CMP-Prozesse sehr effizient durchzuführen. Dieses Reaktorsystem ist sicherlich eine wesentliche Verbesserung gegenüber den herkömmlichen kammerbasierten sequentiellen Prozessen und somit eine ideale Plattform für die Herstellung von Halbleitermaterialien.