Gebraucht NOVELLUS CONCEPT 2 Sequel #9402240 zu verkaufen

NOVELLUS CONCEPT 2 Sequel ist ein CVD-Reaktor (Chemical Vapor Deposition), der speziell für fortschrittliche Dünnschichtabscheidungsprozesse entwickelt wurde. Es handelt sich um ein Doppelkammersystem mit einer oberen Kammer mit einem Massenstromregler (MFC) zur Gasförderung, einem beheizten Duschkopf zur gleichmäßigen Flussförderung und einem Plasmagenerator zur Ionisation und HF-Anregung. Die untere Kammer des Reaktors enthält den auf Substratabscheidungstemperatur erwärmten Suszeptor und einen elektronischen Druckregler (EPC) zur Aufrechterhaltung eines stabilen Vakuumniveaus innerhalb des Reaktors. Das System ist mit einer Reihe von Prozessströmungswegen und Temperaturregelungsmechanismen ausgelegt, um Temperaturstabilität und Kontrolle sowie Gleichmäßigkeit der Dünnschichtabscheidung zu ermöglichen. CONCEPT 2 Sequel verwendet eine Kombination aus Gasströmen und Plasmaanregung, um dünne Filme aus verschiedenen Materialien abzuscheiden. Es verfügt über die Fähigkeit, dünne Filme verschiedener Materialien wie Polysilizium, Aluminium und Kupfer mit hoher Reinheit und Auflösung abzuscheiden. Die obere Kammer des Reaktors ist dort, wo die Gasströme arbeiten, und die untere Kammer ist, wo die Substratabscheidung stattfindet. Mit dem beheizten Duschkopf werden die erhitzten Reaktantgase gleichmäßig über das Substrat verteilt. Durch HF-Anregung der Reaktantgase entsteht ein Plasma, das die Reaktivität erhöht und die Abscheidungsrate und Gleichmäßigkeit erhöht. Der Elektronendruckregler (EPC) arbeitet in der unteren Kammer, um einen konstanten Druck im Reaktor auf dem gewünschten Niveau zu halten. Die Temperaturregelung ist auch ein Schlüsselmerkmal von NOVELLUS CONCEPT 2 Sequel. Der Suszeptor wird in der unteren Kammer erwärmt und die Temperatur wird gleichmäßig über Steuerstäbe verteilt. Das Temperaturüberwachungssystem ermöglicht es dem Benutzer, Temperaturniveaus und die Reaktionsgeschwindigkeit einzustellen, um eine qualitativ hochwertige Abscheidung des Dünnfilms zu gewährleisten. CONCEPT 2 Sequel ist einfach zu bedienen, mit einer intuitiven Benutzeroberfläche und automatisierter Überwachung und Steuerung. Es ist ein vielseitiges Werkzeug für Dünnschichtabscheidung, mit hoher Geschwindigkeit, Gleichmäßigkeit und Zuverlässigkeit für fortgeschrittene Anwendungen.