Gebraucht NOVELLUS CONCEPT 2 Speed #9075495 zu verkaufen
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ID: 9075495
Wafergröße: 8"
Weinlese: 2004
HDP CVD System, 8"
Type: Shrink
Process: STI / IMD
Wafer shape: Notch
Module A: shrink
Module B: shrink
Module B: shrink
MKS Load lock baratron
TM Robot: Mag 7
Ceramic TM Robot blade
MC1 Module controller
Existence wafer sensor
EMO: Turn to release
SECS
IOC Version: 4.1
LCD Front monitor, 12"
DLCM Gas MFC:
UPC1(L L/L) Ar/He 1SLM Brooks 5866
UPC2(R L/L) Ar/He 1SLM Brooks 5866
MFC3 Ar/He 500 Sccm Brooks 5964
Chamber (A, B, C):
Chamber Type: Shrink
Chamber Process: STI / IMD
MC1 Module controller
Throttle valve: MKS 651D
HF Generator: AE RFG5500
IOC Version: 4.1
Pedestal lift type: Dual position
Module turbo pump: Pfeiffer TMH 2101 PCX
ESC / Dome cooling: PCW
LF Generator: AE PDX 8000
Dual clean injector kit
Fore line type: Universal
ESC Type: DS1
Manometer 1(10T): MKS629B
Manometer 2(10T): MKS629B
Manometer 3(100 m): MKS750B
Process clean type: In situ
RF Match: MECURY 3013
Injector type: Single
Injector Size,1"
Chamber gas box:
MFC 1 Ar 500 STEC
MFC 2 O2 500 STEC
MFC 3 NF3 1000 STEC
MFC 4 SiH4 200 STEC
MFC 5 HE 1000 STEC
MFC 8 H2 2000 STEC
System main power: 3-208 V
System UPS Power: 3-120 V
Slit valve insert
Slit valve type: SMC L-Motion
TM Turbo pump model: Pfeiffer TMH 260
TM Throttle valve model: Tylan
MKS TM Baratron model
2004 vintage.
NOVELLUS CONCEPT 2 Speed ist ein chemisch-mechanischer Polierreaktor (CMP) zum Abflachen von Oberflächen von Halbleiterscheiben. Es wird für verschiedene Aufgaben wie das Entfernen von Abstands, Kratzern und anderen Verunreinigungen verwendet, um extrem gleichmäßige und glatte Oberflächen zu schaffen. CONCEPT 2 Speed ist mit einem sehr kompakten und effizienten Platzbedarf konzipiert, wodurch es einfach ist, in jede Art von Arbeitsbereich zu installieren. Dieser Reaktor verfügt über zwei hochpräzise, Hochgeschwindigkeits-Waferträger, die bis zu zwei 300mm Wafer in einem Zyklus handhaben können. Es verfügt auch über einen fortschrittlichen Roboterarm zum Be- und Entladen von Wafern, der eine konsistente und effiziente Verarbeitung gewährleistet. NOVELLUS CONCEPT 2 Speed kann die meisten Poliersequenzen verarbeiten, einschließlich Bandentferner, Verdünner, Pad-Kondensatoren und Schmiermittel. Dieser Reaktor verwendet eine flexible zweimagnetische Vorderachskonfiguration, die eine unabhängige Einstellung der beiden Achsen ermöglicht. Diese Flexibilität sorgt für eine optimale Kontakt- und Prozesssteuerung. Es enthält auch zahlreiche Sensoren, die Verschmutzungsstufen, Prozessbedingungen und Pad-Temperatur erkennen können. CONCEPT 2 Speed verfügt auch über ein leistungsstarkes Güllespreizsystem, das flüssige Güllen während der Verarbeitung schnell und gleichmäßig verteilt. NOVELLUS CONCEPT 2 Speed ist mit mehreren innovativen Technologien ausgestattet, die seine Leistung verbessern sollen. Dieser Reaktor enthält ein Wafer-Mapping-Modul, das präzise Muster seiner Art Karten erstellen kann, die die Oberflächenschicht des Wafers detaillieren. Es verfügt auch über ein Schlamm-Erschöpfungsüberwachungssystem, das die verbleibende Güllemenge überwacht, Überpolieren verhindert und die Systemleistung überwacht. Insgesamt ist CONCEPT 2 Speed ein fortschrittlicher CMP-Reaktor, der verbesserte Leistung und Zuverlässigkeit für Hochvolumenpolieranwendungen bietet. Es ist hocheffizient und erfordert eine minimale Interaktion mit dem Bediener und ist somit die perfekte Wahl für präzise CMP-Anwendungen.
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