Gebraucht NOVELLUS CONCEPT 2 Speed #9093692 zu verkaufen
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ID: 9093692
Wafergröße: 8"
Weinlese: 2005
CVD, HDP System, 8".
Wafer shape: Flat
SMIF Interface: No
PET Module: Yes
Aligner option: No
System main power:
208 V, 50/60 Hz, 3 phase, 5 wires
3-Phase full load current: 10 amps
Max component current: 5 amps
System UPS Power: Yes
Silt valve insert: No
Silt valve type: SMC L-Motion
TM Turbo pump bodel: Pfeiffer TMH260
TM Throttle valve model: MKS
TM Baratron model: MKS
Loadlock baratron model: MKS
IOC Version: V 4.1
TM Robot type: Mag 7
TM Robot blade: Ceramic
Wafer sensor: Existence
Signal tower: Yes
EMO's: Push button
Module controller: MC1
Host interface: SECS
Front monitor: LCD Monitor
MFC1, Ar/He, 1 SLM, Brooks 5964
MFC2, Ar/He, 1 SLM, Brooks 5964
MFC3, Ar/H2, 500 Sccm, Brooks 5964
Sys con: C2-SCON-6582
Signal cable
Chase computer
Module A, B, and C:
Chamber type: Shrink
Chamber process: ILD
Process clean type: In situ
Module controller: MC1
Module turbo pump: Pfeiffer TPH2101 PCX
Manometer 1 (10 T): MKS
Throttle valve: MKS
ESC / Dome cooling: PCW
Temp monitoring: NTM500C
Manometer 2 (10 T): MKS
HF Generator: AE RFG5500
LF Generator: AE PDX 5000
RF Match: Trazar AMU10E-2
Manometer 3 (100 m): MKS
IOC Version: 4.2
Dual clean injector kit: Yes
Injector type: Single
Louvered screen: No
Pedestal lift type: Dual position
Foreline type: Standard
NF3, 1 slm, Aera FC-D980C
Ar, 500 sccm, Aera FC-D980C
O2, 500 sccm, Aera FC-D980C
H2, 2 slm, Aera FC-D980C
HE, 500 sccm, Aera FC-D980C
SiH4, 200 sccm, Aera FC-D980C
Deinstalled
2005 vintage.
NOVELLUS CONCEPT 2 Speed (C2S) ist ein Zweikammer-CVD-Reaktor, der speziell für die Abscheidung von dünnen Schichten für die Halbleiterindustrie entwickelt wurde. Es wird verwendet, um Metalle und Verbindungen wie Silizium, Wolfram und Nitride auf integrierte Schaltungen oder ICs abzuscheiden. Das C2S wurde entwickelt, um Anwendern ein zuverlässiges, hochleistungsfähiges Tool zur Verfügung zu stellen, das speziell auf die fortschrittliche Prozessoptimierung zugeschnitten ist. Der C2S Reaktor weist zwei Kammern auf, die durch eine Trennwand getrennt sind, und verwendet eine chemische Dampfeinspritzeinrichtung, um Reaktanden in die Verarbeitungskammer einzubringen. Die beiden Kammern sind so ausgelegt, dass sie bei unterschiedlichen Drücken, Temperaturen und Strömungsgeschwindigkeiten gleichzeitig arbeiten. Dies ermöglicht die Optimierung aller zur Erzielung der gewünschten Dünnschichtabscheiderate und Gleichmäßigkeit der Abdeckung notwendigen Parameter. Das C2S verwendet ultrahochreines Argon, um die Kammer unter Druck zu setzen und den glatten Gasfluss zu fördern, sowie ein erwärmtes (2200 ° C) Substrat und ein Suszeptorsystem, um die höchsten Abscheidungsraten zu erreichen. Das Gerät ist äußerst präzise ausgelegt, wobei die Prozesssteuerung an mehreren Stellen vorgesehen ist, um die höchste Gleichmäßigkeit auf der Substratoberfläche zu gewährleisten. Eine computergesteuerte Steuerung ermöglicht es Benutzern, die Druck-, Temperatur- und Durchflussparameter bei Bedarf einfach zu überwachen und anzupassen. Das C2S ist mit mehreren fortschrittlichen Technologien ausgestattet, um den Prozess zu verbessern, einschließlich NOVELLUS Close Space Sublimation (CSS) Technologie. Diese Technologie ermöglicht es Benutzern, mehrere Schichten Wolfram und andere feuerfeste Metallfolien mit einer höheren Abscheidungsrate als herkömmliche CVD-Prozesse direkt abzuscheiden. Außerdem entfällt die Notwendigkeit von Ätzschritten, was sowohl zu geringeren Kosten als auch zu kürzeren Zykluszeiten führt. Darüber hinaus kann die C2S in NOVELLUS Endura CVD Machine integriert werden, die eine gleichmäßige Abdeckung bei höheren Abscheideraten mit verbesserter Prozesskontrollgenauigkeit ermöglicht. Dieses Tool ermöglicht es Benutzern auch, die Abscheideparameter und -prozesse in Echtzeit zu überwachen, zu steuern und zu optimieren, was zu einer besseren Fehlerkontrolle und Ertragssteigerungen führt. Das hohe Preis/Leistungsverhältnis und die anpassbaren Funktionen des C2S machen es zu einer idealen Wahl für eine breite Palette fortschrittlicher Fertigungsanwendungen. Die hinzugefügte Prozesssteuerung ermöglicht es Benutzern, das Asset mit höheren Geschwindigkeiten auszuführen und gleichzeitig die gewünschte Gleichmäßigkeit auf der Substratoberfläche beizubehalten. Mit seinen zuverlässigen Leistungsmerkmalen und Anpassungsfunktionen bietet CONCEPT 2 Speed Reaktor Anwendern eine effiziente und kostengünstige Lösung für die Herstellung fortschrittlicher Dünnschichtgeräte.
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