Gebraucht NOVELLUS CONCEPT 2 Speed #9105955 zu verkaufen

NOVELLUS CONCEPT 2 Speed Reaktor ist eine fortschrittliche Halbleiterherstellungsanlage, die bei der Herstellung von integrierten Schaltungen (ICs) verwendet wird. Das System wurde entwickelt, um Hochleistungsgeräte zu produzieren, die sowohl kostengünstig sind als auch höchsten Qualitätsstandards entsprechen. Das Gerät verfügt über eine einzigartige Kombination aus fortschrittlichen Ätz-, Abscheidungs- und Oberflächenbehandlungstechnologien. Die Maschine eignet sich gut für die Herstellung einer Vielzahl von ICs, darunter digitale, analoge, HF, optoelektronische, MEMS und Power-Schaltungen. Herzstück des Werkzeugs ist eine Quantenresonanzkammer (QRC). Dies ist ein fortschrittliches, ultrahoches Vakuum, hochauflösendes Ätzgerät, das in der Lage ist, präzise und reproduzierbare Muster innerhalb einer Vielzahl von Materialien und auf einer Vielzahl von verschiedenen Substraten zu erstellen. Die QRC ist in der Lage, die schwierigsten Geometrien mit Formelementgrößen bis zu 10 nm zu produzieren. Es ist auch in der Lage, Submikron laterale und vertikale Muster mit Ebenheit und Linienkanten raggedness (LER) Werte zu produzieren, die in der Industrie unerreicht sind. Ergänzt wird das QRC durch das CONCEPT 2 Speed Deposition Module (NDM). Diese Technologieplattform ist speziell für hohe Abscheidungsraten und überlegene Folieneinheitlichkeit konzipiert. Das Modell ist in der Lage, eine Vielzahl von Materialien abzuscheiden, einschließlich Polysilizium, Metall, Oxide, Nitride und Isolatoren. Es kann auch eine Vielzahl von Spezialfolien liefern und die Herstellung von fortschrittlichen 3D-structures ermöglichen. Darüber hinaus wurde das NDM entwickelt, um den Durchsatz zu maximieren und die Wafer-Zykluszeit zu minimieren. Dazu ist das NDM in der Lage, in vier verschiedenen Kammern bis zu 300 Wafer gleichzeitig zu be- und entladen. Es ist auch in der Lage, mehrere Workflows parallel durchzuführen und kann mit mehreren Prozessleitsystemen verbunden werden. NOVELLUS CONCEPT 2 Speed wurde entwickelt, um die strengsten kontaminationsfreien Anforderungen zu erfüllen, einschließlich der Anforderungen an die Partikelverschmutzung bis zu 0,15 Mikrometer. Das Gerät ist in der Lage, eine Vielzahl von speziellen Bildgebungs- und Ätzprozessen zu produzieren, wie z. B. Abheben, Aussparung, SiN-Opal und Tiefätzen. Das System bietet auch spezialisierte FIB- und E-Beam-Prozesse. Insgesamt ist der CONCEPT 2 Speed Reactor eine fortschrittliche, leistungsstarke und kostengünstige Fertigungseinheit, die die unübertroffene Flexibilität und Genauigkeit bietet, die für die Herstellung führender ICs erforderlich ist.