Gebraucht NOVELLUS CONCEPT 2 Speed #9238452 zu verkaufen

NOVELLUS CONCEPT 2 Speed ist ein fortschrittlicher Dual Processing Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD) Reaktor, der entwickelt wurde, um eine verbesserte Teilegleichförmigkeit und einen erhöhten Fertigungsdurchsatz zu gewährleisten. Es ist eines der fortschrittlichsten PECVD-Systeme auf dem Markt für die Abscheidung von Dünnschichtbeschichtungen. CONCEPT 2 Speed PECVD-Reaktor nutzt eine Doppelverarbeitungskammer mit HF-gestütztem, nicht-thermischem Plasma, um eine gleichmäßige Schicht von Beschichtungen mit außergewöhnlicher Homogenität und Eigenschaften zu schaffen. Das 2 Speed-System bietet eine außergewöhnliche Schichtgenauigkeit, Gleichmäßigkeit und Oberflächenqualität durch die Verwendung von zwei wechselnden Prozesskammern und zwei einzelnen HF-Generatoren, was eine verbesserte Filmkontrolle, Wiederholbarkeit und Genauigkeit im Vergleich zu Einzelkammersystemen ermöglicht. Dieses PECVD-System zeichnet sich durch eine hohe Genauigkeit der Prozessgasdosierung und -steuerung aus, die dazu beiträgt, korrekte Arbeitsparameter und Substratgleichförmigkeit für eine verbesserte Prozesskontrolle und Homogenität sicherzustellen. Es bietet auch einen direkten Plasmagenerator, der hilft, die Prozesskammerverschmutzung zu reduzieren und gleichzeitig eine überlegene Wiederholbarkeit zu gewährleisten. Es bietet Anwendern eine breite Palette von optionalen Prozessgaszusammensetzungen und Kammerdrücken, die die Abscheidung mehrerer Schichten für komplexe Topologien ermöglichen. NOVELLUS CONCEPT 2 Speed bietet zudem eine verbesserte Filtration für hochdichte Beschichtungen. Dadurch entfällt die Notwendigkeit zusätzlicher Reinigungs- und Trocknungszyklen, was einen erhöhten Durchsatz mit verbesserten Kosteneinsparungen ermöglicht. Es verfügt auch über eine gründlich überwachte Substrat Temperaturregelung, die hilft, Fehlerbildung zu reduzieren. CONCEPT 2 Speed PECVD-System ist für Reinraum- und Produktionsanwendungen in einer Vielzahl von Branchen konzipiert. Es eignet sich für Beschichtungen wie Oxide, Nitride, Carbide und Fluoride für Anwendungen wie Halbleiterverarbeitung, Flachbildschirme, Automobil, Optoelektronik und dekorative Beschichtungen.