Gebraucht NOVELLUS CONCEPT 2 #293616585 zu verkaufen

NOVELLUS CONCEPT 2
Hersteller
NOVELLUS
Modell
CONCEPT 2
ID: 293616585
Wafergröße: 8"
Metal sputter, 8" Comes with 2PM.
NOVELLUS CONCEPT 2 (NC2) ist ein Reaktor für die Halbleiterherstellung. Es besteht aus einem 6 "Niedertemperatur-CVD-Reaktor (Chemical Vapor Deposition), der in der Lage ist, Ultrahochdurchsatz-Abscheidungsprozesse durchzuführen. Sein hoher Durchsatz, seine geringen Kosten und seine Flexibilität machen ihn zu einem idealen Werkzeug für die Hochlauf- und Technologiemigration in der Produktion. Das NC2 verfügt über eine patentierte gepulste/kontinuierliche Prozessfähigkeit, die die Vorteile beider Abscheidungsarten vereint. Bei der gepulsten Verarbeitung wird die Temperatur gehalten, während Laser gepulst aufgebracht werden, um den Stickstoffgehalt zu reduzieren. Eine kontinuierliche Verarbeitung wird erreicht, wenn Laserpulse gleichmäßig kontinuierlich emittiert werden. Diese Kombination von Techniken ermöglicht eine außergewöhnliche Prozesskontrolle und Optimierung von Wachstumsrate, chemischer Zusammensetzung und Filmdicke. Das NC2 verfügt auch über eine innovative Split-Flow-Prozesskammer, die die Konformität für ultradünne Abscheidungen verbessert. Die Spaltstromkammer hält eine Grenze zwischen zwei Gasströmen aufrecht, die eine hohe Konformitätsgleichförmigkeit und gleichmäßige Filmdicke bei minimalen Hohlräumen ermöglicht. Die Split-Flow-Kammer ist ideal für typische Abscheidetemperaturen von 350-450C und ermöglicht die Herstellung hochwertiger gleichmäßiger Beschichtungen auch auf schwierigen Substraten. Das NC2 verfügt über eine nullwiderstandsfähige Kaltwandausrüstung gekoppelt mit einem fortschrittlichen Folienhaftungssystem. Dieses nullwiderstandsfähige Kaltwandelement führt zu höheren Abscheideraten, erhöhter Wafertemperaturgleichförmigkeit und größerer Gleichmäßigkeit der Filmdicke über die gesamte Waferhöhe. Die adaptive Filmadhäsionseinheit trägt zur Verringerung der Ungleichmäßigkeit durch Adsorptionen bei, wodurch eine optimale Filmbildung konsequent erreicht werden kann. Das NC2 ist für die Herausforderungen vieler fortschrittlicher Fertigungstechnologien bestens gerüstet. Es verfügt über eine Vorätz- und Nachätzwaffenmodul-Fähigkeit, die Abscheidung von Schichten mit extremer Konformität ermöglicht. Darüber hinaus können sekundäre Strahlungsquellen dem NC2 hinzugefügt werden, um seine Fähigkeiten noch weiter auszubauen. Dies macht es zu einem idealen Werkzeug für die Technologieentwicklung und Pilotproduktion von nichtflüchtigen Speichergeräten, OLED-Displays, Biosensoren und mehr. Abschließend bietet CONCEPT 2 eine innovative und kostengünstige Lösung für die Herausforderungen der Halbleiterfertigung. Sein patentierter Puls/kontinuierlicher Prozess bietet eine ausgezeichnete Prozesskontrolle und Folieneinheitlichkeit. Seine Split-Flow-Kammer erhöht die Konformität bei ultradünnen Abscheidungen. Seine nullwiderstandsfähige Kaltwand und fortschrittliche Folienadhäsionsmaschine bieten eine höhere Gleichmäßigkeit über die Waferhöhe und eine verringerte Ungleichmäßigkeit der Filmabscheidung. Schließlich ergänzen seine sekundären Quellen das Arsenal fortschrittlicher Fertigungstechnologien um ein leistungsstarkes Werkzeug.
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