Gebraucht NOVELLUS CONCEPT 2 #9004475 zu verkaufen
URL erfolgreich kopiert!
ID: 9004475
Wafergröße: 8"
Weinlese: 2007
CVD system, 8"
Dual-Speed-S
SiO2 Process chamber
Gas configuration:
1 Ar 500 sccm
2 O2 500 sccm
3 NF3 1 slm
4 SiH4 200 sccm
5 He 500 sccm
8 H2 2 slm
MFC:
Aera/FC-7800CD
NC, Metal Seals
1/4”MVCR, 9pin
D-Type Conn
10μin Ra
(2) SPEED-S Module (STI):
Module Controller
Reactor Chamber
Gas Box
Exhaust System
Pressure Measurement System
LPB (Local Power Box)
RF Supply & Output System
APC (Auto Pressure Controller)
Vent N2 Supply System
He Supply System for ESC
Temperature Measurement (NTM3)
Cooling Water Supply System
Compressed Air Supply System
DLCM-X Module (Hi/Low Type) with SMIF:
Standard SMIF
TM Aligner
System Controller (UI I/F)
Module Controller
(2) Load-lock Chambers
Transfer Chamber
Transfer Robot (Indexer for L/L x 2, Mag for TM x1)
Slit Valve
Turbo Pump (TMH260)
Purge Gas, Vent Gas Supply System
Cooling Water Supply System
Compressed Air Supply System
Exhaust System
Pressure Measurement System
Cooling Station
LPB (Local Power Box)
APC (Auto Pressure Controller)
RF Generator
HF Generator: (2) RFG 5500/AE
LF Generator: CLF-5000/COMDEL
Module single service drop, MSSD
Δ-Y Transformer (Type 3-628941, 100KVA)
UPS (“NemieLambda”PS-3210, “Hakkosha” 3WTC-10K)
(2) SMIF Robots (Asyst)
Missing / defects:
Ch-1: HF generator failure, No HF Matching, No Coaxial Cable
Ch-2: Isolation valve failure (100mTorr)
2000 vintage.
NOVELLUS CONCEPT 2 Reaktor ist ein fortschrittliches Stück Halbleiterherstellung Ausrüstung entwickelt, um die Qualität und Effizienz der Produktion zu verbessern. Es ist eine chemische Dampfabscheidung (CVD) Ausrüstung, die verwendet wird, um dünne Filme von Materialien, wie Polysilizium, auf einem Wafer abzuscheiden. Dieser Abscheidevorgang ist ein wesentlicher Schritt bei der Herstellung von integrierten Schaltungsbauelementen wie Mikroprozessoren. CONCEPT 2 ist ein von NOVELLUS Systems entwickeltes Präzisionswerkzeug. Es verfügt über einen hochauflösenden, gleichmäßigen Siliziumabscheidungsprozess sowie über Mehrprozesskammer-Ätzfähigkeiten. Es nutzt fortschrittliche Plasmakammertechnologie, die es ermöglicht, Ätz- und Abscheidungsprozesse gleichzeitig abzuschließen und die Zusammensetzung und die Kammerbedingungen vollständig zu kontrollieren. Dadurch werden extrem gleichmäßige Abscheideraten und Foliendicke erreicht, wodurch zusätzliche Einstellschritte entfallen. NOVELLUS CONCEPT 2 Reaktor verwendet einen Hochfrequenzgenerator und spezialisierte Induktionsspulen, um ein großflächiges, einheitliches Plasma zu erzeugen. Das Plasma wird dann in eine mehrstufige Plasmakammer geleitet, wo es die in die Kammer gelieferten Vorläufer erregt. Die Kombination aus energetischem Plasma und Chemie reagiert auf den gewünschten Siliziumfilm auf dem Wafer. Dadurch entfallen hochspezialisierte und teure Magnetronpulsbeschichtungen. CONCEPT 2 Reaktor verfügt über ein computergesteuertes Prozesssystem und verfügt über erweiterte Diagnosefunktionen und Temperaturkontrolle. Zur Aufrechterhaltung der Reinheit innerhalb der Kammer selbst wird eine Inertgasatmosphäre verwendet, wobei die Vakuumeinheit eine extrem schnelle Ansprechzeit aufweist, die eine schnelle Einstellung des Prozesses ermöglicht. Die Datenerfassungsmaschine ist auch in der Lage, Leistungsüberwachung, Kammerdruckmessungen und Temperaturmessungen zu gewährleisten, um die optimale Umgebung zu erhalten. NOVELLUS CONCEPT 2 Reaktor bietet hervorragende Gleichmäßigkeit und Kontrolle der Folie und ermöglicht eine präzise Steuerung der Prozessparameter. Daraus resultieren ausgezeichnete Qualitätsprodukte mit extrem hohen Ausbeuten und Ausbeuten an bearbeitbaren Einheiten. Darüber hinaus macht die Fähigkeit, mehrere Abscheidungsschichten in einem einzigen Lauf herzustellen, CONCEPT 2 äußerst vielseitig. Dies macht es zu einer ausgezeichneten Wahl für Halbleiterhersteller, die ihre Produktionseffizienz steigern und Müll reduzieren möchten.
Es liegen noch keine Bewertungen vor