Gebraucht NOVELLUS CONCEPT 2 #9004475 zu verkaufen

NOVELLUS CONCEPT 2
Hersteller
NOVELLUS
Modell
CONCEPT 2
ID: 9004475
Wafergröße: 8"
Weinlese: 2007
CVD system, 8" Dual-Speed-S SiO2 Process chamber Gas configuration: 1 Ar 500 sccm 2 O2 500 sccm 3 NF3 1 slm 4 SiH4 200 sccm 5 He 500 sccm 8 H2 2 slm MFC: Aera/FC-7800CD NC, Metal Seals 1/4”MVCR, 9pin D-Type Conn 10μin Ra (2) SPEED-S Module (STI): Module Controller Reactor Chamber Gas Box Exhaust System Pressure Measurement System LPB (Local Power Box) RF Supply & Output System APC (Auto Pressure Controller) Vent N2 Supply System He Supply System for ESC Temperature Measurement (NTM3) Cooling Water Supply System Compressed Air Supply System DLCM-X Module (Hi/Low Type) with SMIF: Standard SMIF TM Aligner System Controller (UI I/F) Module Controller (2) Load-lock Chambers Transfer Chamber Transfer Robot (Indexer for L/L x 2, Mag for TM x1) Slit Valve Turbo Pump (TMH260) Purge Gas, Vent Gas Supply System Cooling Water Supply System Compressed Air Supply System Exhaust System Pressure Measurement System Cooling Station LPB (Local Power Box) APC (Auto Pressure Controller) RF Generator HF Generator: (2) RFG 5500/AE LF Generator: CLF-5000/COMDEL Module single service drop, MSSD Δ-Y Transformer (Type 3-628941, 100KVA) UPS (“NemieLambda”PS-3210, “Hakkosha” 3WTC-10K) (2) SMIF Robots (Asyst) Missing / defects: Ch-1: HF generator failure, No HF Matching, No Coaxial Cable Ch-2: Isolation valve failure (100mTorr) 2000 vintage.
NOVELLUS CONCEPT 2 Reaktor ist ein fortschrittliches Stück Halbleiterherstellung Ausrüstung entwickelt, um die Qualität und Effizienz der Produktion zu verbessern. Es ist eine chemische Dampfabscheidung (CVD) Ausrüstung, die verwendet wird, um dünne Filme von Materialien, wie Polysilizium, auf einem Wafer abzuscheiden. Dieser Abscheidevorgang ist ein wesentlicher Schritt bei der Herstellung von integrierten Schaltungsbauelementen wie Mikroprozessoren. CONCEPT 2 ist ein von NOVELLUS Systems entwickeltes Präzisionswerkzeug. Es verfügt über einen hochauflösenden, gleichmäßigen Siliziumabscheidungsprozess sowie über Mehrprozesskammer-Ätzfähigkeiten. Es nutzt fortschrittliche Plasmakammertechnologie, die es ermöglicht, Ätz- und Abscheidungsprozesse gleichzeitig abzuschließen und die Zusammensetzung und die Kammerbedingungen vollständig zu kontrollieren. Dadurch werden extrem gleichmäßige Abscheideraten und Foliendicke erreicht, wodurch zusätzliche Einstellschritte entfallen. NOVELLUS CONCEPT 2 Reaktor verwendet einen Hochfrequenzgenerator und spezialisierte Induktionsspulen, um ein großflächiges, einheitliches Plasma zu erzeugen. Das Plasma wird dann in eine mehrstufige Plasmakammer geleitet, wo es die in die Kammer gelieferten Vorläufer erregt. Die Kombination aus energetischem Plasma und Chemie reagiert auf den gewünschten Siliziumfilm auf dem Wafer. Dadurch entfallen hochspezialisierte und teure Magnetronpulsbeschichtungen. CONCEPT 2 Reaktor verfügt über ein computergesteuertes Prozesssystem und verfügt über erweiterte Diagnosefunktionen und Temperaturkontrolle. Zur Aufrechterhaltung der Reinheit innerhalb der Kammer selbst wird eine Inertgasatmosphäre verwendet, wobei die Vakuumeinheit eine extrem schnelle Ansprechzeit aufweist, die eine schnelle Einstellung des Prozesses ermöglicht. Die Datenerfassungsmaschine ist auch in der Lage, Leistungsüberwachung, Kammerdruckmessungen und Temperaturmessungen zu gewährleisten, um die optimale Umgebung zu erhalten. NOVELLUS CONCEPT 2 Reaktor bietet hervorragende Gleichmäßigkeit und Kontrolle der Folie und ermöglicht eine präzise Steuerung der Prozessparameter. Daraus resultieren ausgezeichnete Qualitätsprodukte mit extrem hohen Ausbeuten und Ausbeuten an bearbeitbaren Einheiten. Darüber hinaus macht die Fähigkeit, mehrere Abscheidungsschichten in einem einzigen Lauf herzustellen, CONCEPT 2 äußerst vielseitig. Dies macht es zu einer ausgezeichneten Wahl für Halbleiterhersteller, die ihre Produktionseffizienz steigern und Müll reduzieren möchten.
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