Gebraucht NOVELLUS CONCEPT 2 #9071449 zu verkaufen

NOVELLUS CONCEPT 2
Hersteller
NOVELLUS
Modell
CONCEPT 2
ID: 9071449
Wafergröße: 8"
Gate valve, 8" Does not include slit valve.
NOVELLUS CONCEPT 2 Reaktor ist ein CVD-Reaktor, der hauptsächlich zur Abscheidung von Siliziumdioxidfilmen für die Halbleiterwaferbearbeitung verwendet wird. Es ist ein einfaches Abscheidungsverfahren, unter Verwendung einer Art von Gasgemisch, das aus Sauerstoff und Silan besteht, auch als Siloxan bekannt. Das Gasgemisch gelangt aus der Gaszufuhr in die Kammer und durchströmt dann die Reaktionszone. Dabei wird das Silangas durch die durch den durch die Reaktionszone geleiteten elektrischen Strom erzeugte Wärme zersetzt. Anschließend werden die Nebenprodukte Sauerstoff und Siliziumdioxid auf der Waferoberfläche abgeschieden. Der Reaktor CONCEPT 2 sorgt für eine direkte Abscheidung, da die Gleichstrom-Zyklusform ein elektrisches Feld über die Gas/Feststoff-Grenzfläche erzeugt, was die Reaktion an der Waferoberfläche beschleunigt. Die resultierende Abscheidung erfolgt schnell und ist über den gesamten Wafer gleichmäßig. NOVELLUS CONCEPT 2 bietet auch eine unabhängige Steuerung der Temperatur, des Drucks und des Gasflusses innerhalb der Kammer. Der CONCEPT 2 Reaktor besteht aus einer wärmeisolierten Quarzreaktionskammer, einem elektrochemischen Heizelement, einer Abgasanlage, einer Vakuumpumpe, einer Gasförderanlage und Steuer- und Überwachungssystemen. Das elektrochemische Heizelement nutzt den in der Reaktionszone erzeugten elektrischen Strom zur Erwärmung der Reaktionskammer, während die Abgaseinheit zur Entfernung der erzeugten Nebenprodukte wirkt. Die Vakuumpumpe sorgt für den für die Reaktion notwendigen, abgereicherten Druck in der Kammer, während die Gasfördermaschine die erforderlichen Gasgemische liefert. NOVELLUS CONCEPT 2 Reaktor hat gegenüber anderen CVD-Verfahren mehrere Vorteile. Erstens erfordert es eine minimale Wartung und kann bei niedriger Temperatur und Druck betrieben werden. Darüber hinaus hat es durch seine Gleichstrom-Zyklus-Wellenform-Erzeugung eine schnellere Abscheiderate und bietet eine bessere Gleichmäßigkeit über den gesamten Wafer. Schließlich weist sie einen relativ geringen Stromverbrauch auf, was sie in Verbindung mit ihrem geringen Wartungsaufwand zu einer sehr praktikablen Option für industrielle Anwendungen macht.
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