Gebraucht NOVELLUS CONCEPT 2 #9186060 zu verkaufen
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ID: 9186060
Wafergröße: 8"
CVD System, 8"
Sequel chamber
Modified reduced foot print frame
Missing parts:
Meter, DC, press, digital, leak back
Switch / Gauge photohelic
Gas lines plumbing (ALL)
MFC Cable (ALL)
Gas box cabling (ALL)
Numerous system cable (99% Gone)
Lower lift / Rotate assembly (Spindle)
Top plate: Except (4) panels
Intact items or present items:
Vacuum general adapter AC-2
EUROTHERM Heater controller
Heater feed through
RF Isolated TC (Filter)
Valve, throttle, vacuum control
Valve, gate, high vacuum
Upper spindle assembly
Heater block
(5) Shower heads
Fork plate / Ceramic forks
MYKROLIS MFC Gas panel (No plumbing)
Top plate: Lift assembly
Local power box (LPB)
Mega pac: MP5-95532
IOC 27-10318-00 Rev B
Shunt cap (For tune)
Temporary / Pressure control box.
NOVELLUS CONCEPT 2 ist ein Single Wafer Batch Chemical Vapor Deposition (CVD) Reaktor, der den anspruchsvollen Anforderungen der Halbleiterindustrie gerecht wird. Der CONCEPT 2 Reaktor ist in der Lage, fortschrittliche Prozesse bei höheren Durchsatzgeschwindigkeiten durchzuführen, um höhere Erträge und geringere Produktkosten zu erzielen. NOVELLUS CONCEPT 2 Reaktor ist für Abscheideprozesse einschließlich Wolfram und Silizium-basierte Folien, wie Ti/TiN, SiOC und BCB konzipiert. Der Reaktor bietet überlegene Leistung, ohne die Ausbeute zu beeinträchtigen. Es verfügt über eine einzigartige Design-Konfiguration mit einem leistungsstarken elektro-dynamischen Kopf entwickelt, um die Prozesskammerbedingungen besser zu steuern. Es ist mit mehreren internen Elektroden für eine bessere Gleichmäßigkeit und verringerte elektromagnetische Störungen ausgestattet. CONCEPT 2 Reaktor kann auch einfach mit dem Transferroboter an andere Abscheidewerkzeuge anschließen. NOVELLUS CONCEPT 2 ist in einem 6-Zoll-Durchmesser oder 8-Zoll-Durchmesser erhältlich und bietet eine Vielzahl von Prozessoptionen, einschließlich Einzelwafer-, Chargen-, Mehrzonen- und Mehrkammerbearbeitung. Es verwertet ein, Echtzeitmehrsegmenttemperaturregelsystem für die genaue Prozesssteuerung und Stabilität. Das System wird von einem seriellen Hochleistungs-Embedded-Prozessor für optimalen Betrieb angetrieben. CONCEPT 2 unterstützt sowohl die kontinuierliche keramische Gaseinspritzung als auch die On-Demand-Dosierung mit seinem M4-Injektor. Es verfügt auch über ein Kühlluftumfangssystem, das an Einlass- und Auslassventile angeschlossen werden kann, um unerwünschte Wärmelast zu reduzieren und eine saubere, staubfreie Prozessumgebung bereitzustellen. NOVELLUS CONCEPT 2 lässt sich mit seiner leistungsstarken und intuitiven Software problemlos in neue oder bestehende Systeme integrieren. Die Prozessgewinne und Parameter werden einfach eingerichtet und überwacht, und die Echtzeit-Prozessdaten können verwendet werden, um potenzielle Probleme zu erkennen und Erträge zu maximieren. Insgesamt ist CONCEPT 2 ein effizienter, leistungsstarker CVD-Reaktor für fortschrittliche Prozesse. Es ist mit außergewöhnlicher Präzision und Leistung konzipiert, und mit seiner intuitiven Software und fortschrittlicher Prozesskontrolle ist es eine gute Wahl für hohe Erträge und niedrigere Produktkosten.
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