Gebraucht NOVELLUS CONCEPT 2 #9235678 zu verkaufen
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ID: 9235678
Wafergröße: 8"
Weinlese: 2006
CVD HDP System, 8"
(3) Chambers: Speed shrink
2006 vintage.
NOVELLUS CONCEPT 2 ist ein Reaktor für die chemische Dampfabscheidung (CVD), der in der Halbleiterindustrie eingesetzt wird. Es handelt sich um einen Einzel-Wafer-Mehrkammer-CVD-Reaktor, der entwickelt wurde, um eine schnelle Prozessentwicklung, Prozessqualifizierung und eine hohe Durchsatzleistung zu ermöglichen. CONCEPT 2 ermöglicht durch seine einzigartige Mehrkammerarchitektur und sein breites Spektrum an kammerkompatiblen Prozessgasen Flexibilität und Selektivität für den Abscheideprozess. NOVELLUS CONCEPT 2 ist ein halbgeschlossenes Zwei-Zonen-Design. Die Hauptkammer besteht aus einer unteren Kammer und einer oberen Kammer. Die obere Kammer ist die Hauptprozesskammer, in der der CVD-Prozess stattfindet. Die verschiedensten konformen Prozessgase können durch zwei Gasrouter in die obere Kammer eingeleitet werden, was eine äußerst präzise Steuerung der chemischen Komponenten in der Kammer und die Einstellung der Temperatur des Wafers während des Abscheidungsprozesses ermöglicht. Die Bodenkammer ist mit Feuchtigkeitsaustauschgas gefüllt, das so ausgelegt ist, dass die Kammer umgeladen wird, um Oxidation und Partikelansammlung zu verhindern. CONCEPT 2 ist mit einer Reihe von Roboterfunktionen ausgestattet. Der Roboterarm ist dazu ausgelegt, den Substratwafer von einer Kammer zur nächsten Kammer zu bewegen, in die obere Kammer einzuführen und andere Komponenten wie Gasleitungen, Auskleidungsrohre, Heizungen und Abschirmungen einzuführen und zu bewegen. Der Roboter ist auch so konzipiert, dass er nicht symmetrische Bewegungen mimen kann, was eine erhöhte Flexibilität für chemische Strömungen und Prozesse ermöglicht. NOVELLUS CONCEPT 2 Reaktor ist mit einem fortschrittlichen Prozessleitsystem (APC) ausgestattet. Der APC kann so programmiert werden, dass er präzise Bewegungen des Wafers, des Roboterarms und der Prozessgase vornimmt. Die APC überwacht auch die Bedingungen im Reaktor und in Prozessgasen wie Temperatur, Plasmadruck und Durchfluss. Diese Regelung ermöglicht eine hohe Genauigkeit der Prozessparameter, was die Geschwindigkeit und Qualität des CVD-Prozesses verbessert. Abschließend ist der CONCEPT 2-Reaktor ein einzigartiges Gerät, das die Kontrolle der Temperatur, Geschwindigkeit und Genauigkeit des chemischen Dampfabscheidungsprozesses ermöglicht. Das Zwei-Zonen-Design und das fortschrittliche Prozessleitsystem ermöglichen eine schnelle Prozessentwicklung, Prozessqualifizierung und Produktion mit hohem Durchsatz.
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