Gebraucht NOVELLUS CONCEPT 2 #9251350 zu verkaufen

NOVELLUS CONCEPT 2 ist ein beliebter CMP-Reaktor mit mehreren Stationen (Chemical Mechanical Polishing), der eine verbesserte Polierleistung und einen hohen Durchsatz bietet und gleichzeitig die Gesamtkosten senkt. CONCEPT 2 wurde für die Halbleiterproduktion entwickelt und ist weit verbreitet, da es Polierkammer, Trägersystem und In-situ-Überwachung kombiniert, um die Prozesseffizienz zu maximieren. NOVELLUS CONCEPT 2 ist ein Full-Feature-CMP-Reaktor, der eine Vielzahl von Funktionen und Fähigkeiten bietet, um die Polierleistung zu optimieren. CONCEPT 2 nutzt eine Kombination aus Gas-Horizontal- und Güllestrom namens TrimodalTM, um die Prozessgleichförmigkeit zu verbessern und den chemischen Verbrauch zu reduzieren. Diese Funktion ermöglicht es, die individuellen Einstellungen von Gas, Gülle und Druckniveau für den spezifischen Prozess jedes Polierrezepts oder -anwendung zu optimieren. Darüber hinaus optimiert die Standard Modulated Load Control (MLC) -Funktion die Druckverteilung über den Wafer beim Polieren, um Oberflächengleichförmigkeit über jeden einzelnen Wafer sowie ein ganzes Fertigungslos zu gewährleisten. Das Herzstück von NOVELLUS CONCEPT 2 ist die Steuerung. Dazu gehören die aktuellsten CMP-Rezepte, die über den seriellen Steuerbus problemlos von Station zu Station übertragen werden können. Die Steuerung ist in der Lage, Faktoren wie Kraft, Drehzahl, Temperatur und Druck zu überwachen. Es verwendet auch parametrische Rückkopplung auf Parameter wie Filmdicke, Oberflächenrauhigkeit und Gleichmäßigkeit, die für ein erfolgreiches Polieren entscheidend sind. Der CONCEPT 2-Reaktor hat seinen Platz in der Halbleiteranwendungsindustrie als einer der führenden CMP-Reaktoren eingenommen. Es bietet zuverlässige, effiziente und kostengünstige Polierleistung mit der Möglichkeit, CMP-Kosten bis zu 30% zu senken. Die Kombination seiner fortschrittlichen Funktionen mit seiner außergewöhnlichen Leistung macht es zum idealen Werkzeug für die meisten Produktionsläufe.