Gebraucht NOVELLUS Concept 3 Altus Max #293802355 zu verkaufen

NOVELLUS Concept 3 Altus Max Reactor ist ein hocheffizientes Prozesswerkzeug für die modernsten Herstellungsverfahren von Halbleiterbauelementen. Es wird bei der Herstellung von Hochleistungs-integrierten Schaltungen verwendet. Concept 3 Altus Max Reactor ist ein einzigartiges Werkzeug, das durch Maximierung von Produktivität und Durchsatz mit fortschrittlicher integrierter Prozessautomatisierung und -steuerung ein überlegenes Produktionsvolumen bietet. NOVELLUS Concept 3 Altus Max Reactor verwendet einen CVD-Prozess (Chemical Vapor Deposition), um präzise Filmdicke mit Gleichmäßigkeit zu Nanometern abzuscheiden. Das Reaktordesign verwendet Hochgeschwindigkeitspulsen, Warmwandverarbeitung und Technologien mit geringer Infiltration, um die Prozesszeit zu reduzieren und unnötige Wafer-Handhabung zu vermeiden. Darüber hinaus ermöglicht das System wiederholbare Fertigungsvorgänge mit minimalen Ausfallzeiten, die eine hohe Ausbeute an qualitativ hochwertigen Geräten gewährleisten. Concept 3 Altus Max Reactor ist mit einer großen variablen Seitenwandhöhe ausgestattet, die gleichzeitige großflächige und kleinflächige Substrate ermöglicht. Die variable Seitenwandhöhe ermöglicht auch eine erhöhte Plasmaproduktion für verbesserte Filmabscheideraten. Die Reaktorarchitektur bietet auch eine hervorragende Prozesssteuerung mit einstellbaren Quellen, einstellbarem Druck und einstellbarer Temperatur. Das Verfahren wird auch vor Verunreinigungen durch Spülen vor und nach jedem Vorgang geschützt. Die integrierte Prozessautomatisierung und -steuerung von NOVELLUS Concept 3 Altus Max Reactor ermöglicht eine Reihe von Produktionsoptionen, einschließlich umfassender Online-Datenerfassung, Echtzeit-Feedback und Autokorrektur. Die erweiterte Prozesssteuerung wird durch Predictive Analytics und automatisiertes Cycle Mapping verbessert. All dies erleichtert eine schnellere Waferbearbeitung, senkt die Energiekosten und minimiert die Produktionszeit. Concept 3 Altus Max Reactor ist für fortschrittliche Technologieknoten mit der Fähigkeit, 200 - 500 mm Wafer mit verbesserten Geschwindigkeiten zu verarbeiten und liefert konsistente und wiederholbare Prozessergebnisse. Das Werkzeug kann mehrere Materialien wie Silikate und Oxide ausführen und bietet eine integrierte HF-Leistungssteuerung für eine verbesserte Filmabscheidung. Abschließend ist NOVELLUS Concept 3 Altus Max Reactor mit seinem hohen Durchsatz, seiner überlegenen Prozessautomatisierung und -steuerung sowie seiner Flexibilität eine ausgezeichnete Wahl für die fortschrittlichste Halbleiterprozessherstellung.