Gebraucht NOVELLUS Concept 3 Altus #293638913 zu verkaufen

NOVELLUS Concept 3 Altus ist ein CVD-Reaktor für die Herstellung von Halbleitern. Es verwendet ein plasmaverbessertes thermisches Verfahren, um eine Vielzahl von dielektrischen und Metallfilmen auf Substraten wie Halbleiterscheiben abzuscheiden. Der Altus verfügt über fortschrittliche Funktionen zur Verbesserung der Leistung, der Dampfabgabe und der Gleichmäßigkeit und ermöglicht eine genaue Schichtung von dünnen Filmen. Der Altus wird von einer HF-Quelle angetrieben, die ein Argon- oder Helium-Plasma in der Reaktorkammer unterhält. Das Substrat wird Mikrowellen ausgesetzt, wodurch Wärme erzeugt wird, die Vorstufen verdampft und in super atomare Moleküle zerlegt. Diese Superatome bewegen sich über das erhitzte Substrat, befestigen sich an zuvor abgeschiedenen Atomen und bilden einen gleichmäßigen Film gleichmäßiger Dicke. Der Altus bietet eine fortschrittliche Steuerung der Prozessparameter, liefert gepulste Speisung und einstellbare Vorspannung, um Präzisionsätzen zu liefern, eine einheitliche Filmabscheidung und einen verbesserten Durchsatz zu bieten. Ein schneller Vorläuferaustausch minimiert zudem die Kontamination zwischen verschiedenen Sequenzen. Der Altus verfügt auch über ein einzigartiges Kammerdesign, das zu einer besseren Gleichmäßigkeit führt, mit einer Schnellwechselbürste für die Präzisionsreinigung. Der Altus verfügt über eine Reihe von Sicherheitsfunktionen, um das System vor Überhitzung und Benutzer vor potenziellen Gefahren zu schützen. Es verfügt über eine CPU-Steuerung mit analogen und digitalen Ein- und Ausgängen zur einfachen Integration in bestehende Systeme und Anwendungen. Darüber hinaus arbeitet das Gerät über einen erweiterten Mehrkopf-Roboterarm für mehr Genauigkeit und Flexibilität. Concept 3 Altus ist ideal für fortschrittliche und anspruchsvolle Anwendungen in der Halbleiterproduktionsindustrie und bietet eine effiziente und einheitliche Filmabscheidung, fortschrittliche Reinigungs- und Sicherheitsfunktionen sowie eine fortschrittliche Schicht- und Prozesskontrolle. Dieser zuverlässige und sehr vielseitige Reaktor ist eine große Investition für Fabriken und andere Produktionsstätten.