Gebraucht NOVELLUS Concept 3 Altus #293758414 zu verkaufen

NOVELLUS Concept 3 Altus („Altus“) ist ein Hochleistungs-Plasmareaktor der nächsten Generation, der von NOVELLUS Systems entwickelt wurde. Altus ist in der Lage, eine breite Palette von Materialien zu verarbeiten, von thermischem Oxid bis Titannitrid, mit höchster Prozessgleichförmigkeit und höchster Durchsatzleistung. Das fortschrittliche Design des Altus verwendet neuartige Technologie, um wiederholbare, überlegene Leistung mit der Fähigkeit zu liefern, Merkmalsbreiten von 10 Nanometern und darunter zu verarbeiten. Kern von Altus ist das fortschrittliche Gasfördersystem, das einen einzigartigen dualen Plasmaquellenansatz bietet, um ein gleichmäßigeres Plasma über die gesamte Kammerbreite bereitzustellen. Zwei Magnetrons ermöglichen es dem Plasma, sich weiter über das Substrat zu erstrecken, wodurch eine starke magnetische Wolke entsteht, die eine gleichmäßigere Temperatur über das gesamte Substrat bietet. Die duale Plasmaquelle bietet auch eine verbesserte Flexibilität für die Verarbeitung einer Vielzahl von Materialien, einschließlich Thermooxid, Titannitrid, Kohlenstoff-Nanoröhren, Siliciumcarbid, Galliumnitrid und Aluminiumnitrid. Der Altus-Reaktor nutzt eine kapazitiv gekoppelte Hochfrequenz (HF) -Stromquelle mit fortschrittlicher Pulstechnologie. Die Technologie nutzt eine schaltbare Stromversorgungsleitung, um eine stabilere Energiezufuhr zur Plasmaquelle zu gewährleisten und anschließend eine bessere Kontrolle der Plasmaparameter und eine Minimierung der Beschädigung des Substrats zu ermöglichen. Gleichzeitig ermöglicht die HF-Leistung eine schnelle Temperaturrampe nach oben und Abkühlung des Prozesses zur Steuerung der Materialbearbeitungsbedingungen Der Altus-Reaktor ist auch mit fortschrittlicher Kammer- und Substratgeometrie ausgestattet, die eine überlegene Schrittabdeckung und hochgleichmäßige Prozessschichten ermöglicht. Die Kammergeometrie umfasst ein langes, im Durchmesser verwirbeltes Gefäß, das eine gleichmäßige beheizte Gasverteilung bei gleichmäßiger Wafer-zu-Wafer-Gleichmäßigkeit für moderne Anwendungen ermöglicht. Die Substratgeometrie hilft auch, Substratschattierungen, Brechungen und Fokussierungseffekte zu reduzieren, die zu Ungleichmäßigkeit führen können. Das Altus-System bietet effiziente und energieeffiziente Leistung mit reduzierten Zykluszeiten für eine anhaltend hohe Durchsatzleistung. Durch die Verwendung eines größeren Bereichs von Parametern bietet das Altus-System höhere Abscheideraten, höhere Filmqualität und bessere Durchsatzrate-to-Duty-Zyklus (TRDC) -Verhältnisse. Der Altus ist auch so konzipiert, dass er mit neueren Technologien oder Prozessänderungen leicht aufrüstbar ist. Dies bietet Ingenieuren und Betreibern die Möglichkeit, mit modernsten Technologien Schritt zu halten und gleichzeitig ihre aktuellen Prozesse aufrechtzuerhalten.