Gebraucht NOVELLUS Concept 3 Altus #293767145 zu verkaufen

NOVELLUS Concept 3 Altus ist ein PECVD-Reaktor, der mit Hochfrequenzplasma konforme Dünnschichtmaterialien wie Siliciumcarbid und Aluminiumoxynitrid abscheidet. Der Reaktor ist speziell für anspruchsvolle konforme und gerichtete übergeordnete Prozessmodule wie Dünnschichthandling, Polieren, Oxidation und Verdrahtung ausgelegt. Mit einem verbesserten Design mit erhöhter Wafer-Tragfähigkeit bietet Concept 3 Altus eine hervorragende Gleichmäßigkeit bei minimaler Partikelerzeugung. Die Einheit ist auf einem 100mm x 200mm Substrat aufgebaut und enthält eine fortschrittliche Ionenquelle, die schnell bewegliches Plasma mit hohen Abscheidungsraten und niedrigen Spannungen erzeugt. Die fortschrittliche Strahltechnologie erzeugt konforme Beschichtungen mit ausgezeichneter Foliengleichförmigkeit, die eine gleichmäßige Abdeckung der zu bearbeitenden Vorrichtung gewährleistet. Diese Ionenquelle kann bei niedrigeren Temperaturen betrieben werden, was dazu beiträgt, den Energieverbrauch zu reduzieren und die Gesamtlebensdauer der Einheit zu verbessern. NOVELLUS Concept 3 Altus verfügt über ein einzigartiges Dual-Displacement-Design, das die Leistung verbessert. Das Gerät weist eine obere Kammer und eine untere Kammer auf, die durch eine Doppelgurtbrücke verbunden sind. Dieses Design ermöglicht eine höhere Belastbarkeit und eine bessere Abdeckung großer Substrate und hilft bei der Erzeugung höherer Abscheideraten und der Gleichmäßigkeit der Abscheidung. Der Reaktor weist außerdem ein ausgeklügeltes zweiseitiges Gaseinleitungssystem auf, das einen gleichmäßigen und homogenen Gasstrom über das Substrat erzeugt. Diese Einheit weist oberhalb und unterhalb des Substrats angeordnete unabhängige Gasgatter auf und hilft bei der Erzeugung höherer Abscheideraten bei geringer Abscheidungsspannung. Concept 3 Altus enthält auch erweiterte Automatisierungsfunktionen, die seine Leistung verbessern. Es enthält ein benutzerfreundliches Monitorpanel, das es dem Benutzer ermöglicht, die Parameter der Maschine bequem zu überwachen und Befehle vom Bildschirm aus zu initiieren. Das Tool ermöglicht auch eine einfache Integration in andere Reaktorsysteme, was den Produktionsprozess vereinfacht und die Betriebskosten senkt. Insgesamt ist NOVELLUS Concept 3 Altus ein leistungsstarker PECVD-Reaktor, der eine breite Palette konformer Dünnschichten und Abscheidungen herstellen kann. Es verfügt über ein anspruchsvolles Design, ausgezeichnete Gleichmäßigkeit, verbesserte Ladekapazität und intelligente Automatisierung. Diese Eigenschaften machen Concept 3 Altus zu einer idealen Wahl für diejenigen, die einen zuverlässigen, effizienten und kostengünstigen PECVD-Reaktor suchen.