Gebraucht NOVELLUS Concept 3 Altus #9248122 zu verkaufen

Hersteller
NOVELLUS
Modell
Concept 3 Altus
ID: 9248122
Wafergröße: 12"
CVD System, 12" Dual chamber BROOKS AUTOMATION Robot Load port: 3-FOUP Pre aligner and centering: Single axis Mainframe: Platform type: Wafer transfer module, 12" Load lock: (2) Load locks (3) Load lock cooling pedestals Chambers: Altus C3 Mod A / Mod B MKS Astron RPS Power supply Pedestal: Al Heater pedestals with lift pins (Station 1) Al Heater pedestals (Stations 2-4) Gas panel: MFC / Gas / Size (SCCM) MFC-P / Ar-F / 20000 MFC-N / B2H6-D / 500 MFC-M / Ar PNL / 20000 MFC-K / WF6-N / 500 MFC-J / WF6-M / 500 MFC-I / NF3 / 5000 MFC-G / SiH4-K / 500 MFC-F / Ar-K / 5000 MFC-E / WF6-J / 500 MFC-D / Ar-H / 50000 MFC-C / Ar CVD / 20000 MFC 9 / H2-C / 30000 MFC 8 / Ar-C / 20000 MFC 5 / WF6-W / 500 MFC 4 / Ar-B / 20000 MFC 3 / H2-A / 30000 MFC 2 / SiH4-D / 500 MFC 1 / Ar-D / 5000 APC 1 / Argon / 3000 Component: NOVELLUS 01-172346-12 SSD Power rack 651WF Scrubber Module A: BOC EDWARDS iH1000 Pump KASHIYAMA SDE90 Pump Module B: BOC EDWARDS iH1000 Pump (3) KASHIYAMA SDE90 Pump.
NOVELLUS Concept 3 Altus ist ein hochentwickelter Ätzreaktor der nächsten Generation, der für eine Vielzahl von Anwendungen in der fortschrittlichen Halbleiterherstellung entwickelt wurde. Der Reaktor verwendet sowohl Hardware als auch Software, um die Genauigkeit und den Durchsatz im Ätzprozess zu maximieren. Im Kern nutzt Concept 3 Altus ein einziges großes Dreizonen-Dual-Plasma-Brennerdesign. Diese Konfiguration bietet eine Vielzahl von Vorteilen, darunter einen verbesserten Vorläuferdurchsatz, verbesserte Abscheideraten und eine höhere Gleichmäßigkeit über das Substrat. Der Brenner wurde für eine verbesserte elektrische Effizienz optimiert und ist in der Lage, hohe Durchsätze in Ätzanwendungen zu erzielen. Zusätzlich erlauben die drei Zonen einen größeren Leistungsbereich über das gesamte Substrat aufzubringen. Der Reaktor ist auf ein dreistufiges Plasmaätzverfahren ausgelegt. Zunächst beschichtet der Reaktor das Substrat mit einer Polymerschicht, die eine Beschädigung des Substrats durch den Ätzvorgang minimiert. Zweitens führt der Reaktor einen Hochleistungs-Plasmastufe über das Substrat und in die darunter liegenden Schichten. Schließlich beendet der Reaktor den Ätzprozess, indem es zu einem schnellen isotropen Ätzen kommt. Für eine optimale Ätzleistung ermöglicht NOVELLUS Concept 3 Altus den Einsatz von spezialisierter Computersoftware namens „QChamber“. Diese Software gewährleistet die Optimierung jedes Ätzprozesses durch eine detaillierte Analyse der Plasmabedingungen und beinhaltet auch eine spezielle Querschnittstechnologie zur Analyse des Ätzprofils. QChamber ermöglicht auch die Überwachung mehrerer Prozessebenen, einschließlich Codierungs- und Abscheideraten, Crossover-Erkennung und Bogenunterbrechung. Neben dem QChamber kann Concept 3 Altus in andere Prozessleitsysteme integriert werden. Dies ermöglicht eine bessere Anpassung und höhere Präzision während des Ätzprozesses. Es ermöglicht auch die Verwendung von erweiterten Funktionen wie Process-in-Place (PiP) -Reinigung, die die Effizienz jedes Ätzlaufs verbessert. NOVELLUS Concept 3 Altus ist ein leistungsstarkes Werkzeug für den modernen Halbleiterhersteller. Es bietet fortschrittliche Präzision und Kontrolle für Ätz- und andere Prozesse, die für die Produktionskette unerlässlich sind. Mit leistungsstarker Hardware, fortschrittlicher Software und branchenführenden Funktionen ist Concept 3 Altus hochkompetent und bietet jedem Chiphersteller einen Wettbewerbsvorteil.
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