Gebraucht NOVELLUS Concept 3 Altus #9316137 zu verkaufen

NOVELLUS Concept 3 Altus
Hersteller
NOVELLUS
Modell
Concept 3 Altus
ID: 9316137
CVD System Process: Tungsten.
NOVELLUS Concept 3 Altus Reactor ist eine leistungsstarke, multifunktionale Abscheidung, die für die dynamische Filmabscheidung in einer Vielzahl von industriellen Anwendungen verwendet wird. Der Reaktor verfügt über ein modernes optisches System ohne Standortlinie, das die Prozessstabilität, Zuverlässigkeit und Wiederholbarkeit der Ergebnisse ermöglicht. Das Konzept 3 Altus Reactor besteht aus einer Ionenquelle, einer Plasmakammer, einer Vorreinigungskammer und einer Abscheidekammer mit einer 10-stufigen 4-Zonen-Heizeinheit. Die Waferkonfigurationen sind optimiert, um die thermische Diffusion zu maximieren und Temperaturgradienten zu minimieren, wodurch Prozesskonsistenz und Genauigkeit gewährleistet werden. Die Ionenquelle ist dazu ausgelegt, energetische Ionen zu erzeugen, die zum Ätzen von Substraten und/oder zum Erzeugen von Plasmadichten verwendet werden, die dazu führen, dass die Partikel in der Plasmakammer mit dem Substrat interagieren. Diese Wechselwirkung bildet dünne Filme über Aufdampfverfahren, die zur Beschichtung von Materialien verwendet werden. Die Plasmakammer dient zur Erzeugung und Aufrechterhaltung von Plasmen bei hohen Temperaturen, die Partikel in der Gasphase halten, während sie sich auf einem zylindrischen Weg zum Substrat bewegen. Die Vorreinigungskammer dient zur Entfernung von Verunreinigungen vor der Abscheidung und die 10-stufige 4-Zonen-Heizmaschine ist so ausgelegt, dass sie Prozessstabilität und eine gleichmäßige Temperatur gewährleistet. NOVELLUS Concept 3 Altus Reactor wurde entwickelt, um eine außergewöhnliche Integration zwischen den Ätz- und Abscheidemodulen und automatisierten Steuerungsfunktionen zu gewährleisten. Es ist in der Lage, hochauflösende Ätzprozesse, chemische Dampfabscheidung, Atomschichtabscheidung und Sputterprozesse durchzuführen. Seine fortschrittlichen Bewegungssteuerungssysteme ermöglichen die gleichzeitige Steuerung von bis zu 16 unabhängigen Waferstufen, was für eine engtolerante Prozesskontrolle und Produktgleichförmigkeit unerlässlich ist. Concept 3 Altus Reactor ist eine ideale Wahl für eine Vielzahl von industriellen Abscheidungsprozessen. Es bietet leistungsstarke Funktionen, Prozessstabilität und zuverlässige Ergebnisse mit wiederholbarer Leistung. Die fortschrittlichen Bewegungssteuerungssysteme und die präzise Temperaturregelung machen es zu einer kostengünstigen Lösung für jede industrielle Folienabscheidung.
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