Gebraucht NOVELLUS Concept 3 Altus #9375600 zu verkaufen

NOVELLUS Concept 3 Altus ist eine mittelvolumige Chemical Vapor Deposition (CVD) Reaktorausrüstung, die in der Halbleiterherstellung zur Abscheidung von siliziumbasierten, epitaktischen oder polykristallinen Folien verwendet wird. Konzept 3 Altus wurde entwickelt, um bestehende CVD-Reaktor-Fähigkeiten zu verbessern, mit dem Fokus auf Maximierung der Fähigkeit, Flexibilität und Durchsatz. Zu den innovativen Merkmalen des Reaktorsystems gehört das patentierte Doppelkammerdesign, das den Durchsatz des Geräts optimiert. Grundlage der Konstruktion der Maschine ist die patentierte Dual Chamber Technology (DCT), die eine Mehrzonen-Layout-Topologie verwendet. Diese Anordnung ermöglicht eine effizientere Ausnutzung des Reaktionskammerraums durch zwei unabhängig voneinander selbstjustierende Minikammern, die die Oberfläche innerhalb der Hauptkammer teilen. Durch die Abtrennung der Reaktionskammer nutzt NOVELLUS Concept 3 Altus eine Reihe wertvoller Prozessfähigkeiten und reduziert gleichzeitig die Anzahl der erforderlichen Prozessschritte. Durch die Kombination der Gasabschreckung und der reaktiven Regeneration in einer einzigen Reaktionszone werden viele der typischen CVD-Reaktorprobleme wie Ungleichmäßigkeit und Nicht-Wiederholbarkeit der Abscheideprozesse eliminiert. Concept 3 Altus ist mit einer Reihe weiterer Funktionen ausgestattet, um die Reaktor- und Prozessleistung zu maximieren. Das Werkzeug ist in der Lage, fortschrittliche Prozessschritte wie Hochtemperaturverdampfung und Vorsputtern für verbesserte Folieneinheitlichkeit und Prozesswiederholbarkeit durchzuführen. Darüber hinaus verfügt die Anlage über eine einzigartige Gasmischfähigkeit, die es zwei Prozessgasen ermöglicht, sorgfältig geregelt zusammenzuführen, was die Prozessgenauigkeit und Wiederholbarkeit weiter verbessert. Die fortschrittlichen Fähigkeiten von NOVELLUS Concept 3 Altus in Kombination mit seinem robusten Design ermöglichen es, außergewöhnliche Leistung und Zuverlässigkeit in einer CVD-Plattform nach Industriestandard zu bieten. Durch den Einsatz der patentierten dynamischen Kammertechnologie bietet Concept 3 Altus im Vergleich zu herkömmlichen CVD-Systemen einen überlegenen Durchsatz und eine gleichmäßige Folie. Darüber hinaus nutzt das Reaktormodell eine Reihe fortschrittlicher Funktionen wie Gasmischung, Hochtemperaturverdampfung und Vorsputtern, um die Leistung des Abscheidungsprozesses zu optimieren. Insgesamt ist NOVELLUS Concept 3 Altus eine innovative CVD-Ausrüstung, die optimale Leistung, Flexibilität und Durchsatz liefert.