Gebraucht NOVELLUS Concept 3 Inova #9281509 zu verkaufen

NOVELLUS Concept 3 Inova ist ein plasmafähiges CVD-Werkzeug (Chemical Vapor Deposition), das für die hochprofilige, plasmaförmige Abscheidung von Dünnschichtschichten auf verschiedenen Substraten konzipiert ist. Es ist speziell für den fortschrittlichen Dünnschichtabscheidungsprozess auf einer Vielzahl von Substraten entwickelt, ohne dass zusätzliche Behandlungsschritte nach der Abscheidung erforderlich sind. Concept 3 Inova ist mit einer patentierten „ZoneLock“ -Technologie ausgestattet, die Temperaturgenauigkeit und Kontrolle für weitreichende Prozessprofilerstellungsfunktionen über mehrere Wafer hinweg bietet. Der CVD-Reaktor besteht aus drei verschiedenen Kammern: einer Einführkammer, einer Prozesskammer und einer Entsorgungskammer. Die Einführkammer dient zur Vorkonditionierung von Substraten, während die Prozesskammer der Hauptverarbeitungsbereich ist, in dem die Materialien Hochtemperaturreaktoren und Prozessgas ausgesetzt sind. Die Entsorgungskammer dient zur sicheren Entsorgung von nicht umgesetzten Reaktanden, Rauchgasen und Nebenproduktgasen. Die dynamische Reaktionsumgebung von NOVELLUS Concept 3 Inova entsteht durch eine einzigartige „Plasmazone“ -Technologie. Dabei handelt es sich um eine ultraaktive Vergasungszone, in der die Substrate und Reaktanten in einem energiereichen Plasmafeld gebadet werden, das eine präzise Reaktion und Abscheidung von Materialien ermöglicht. Die reaktiven Gasdetails, wie Fluor und Sauerstoff, werden durch hochregulierte, aber dynamische Überschallstrahlen erzeugt und gesteuert. Fortschrittliche Plasmazonenkontrolltechnologien ermöglichen auch eine überlegene Dotierungssteuerung und eine gleichmäßige Abscheidung über komplexe Merkmalsgeometrien. Concept 3 Inova hat auch ein spezielles Drehdesign, das die Gleichmäßigkeit über Schichten hinweg weiter erhöht. Das drehbare Design bietet eine breite Palette von Substratgrößen und kann Wafer mit einem Durchmesser von bis zu 300 mm (12 Zoll) unterstützen. Das gesamte System ist in eine Umgebungskammer eingeschlossen, die für eine hohe Präzision und Kontrolle während des Abscheidezyklus ausgelegt ist. NOVELLUS Concept 3 Inova CVD-System vereint mehrere hochmoderne Technologien, um eine erstklassige Abscheidung mit überlegener Einheitlichkeit und Prozesskontrolle zu ermöglichen. Dieser CVD-Reaktor erweitert die Fähigkeiten der NOVELLUS Produktfamilie und bietet Anwendern einen kostengünstigen, zuverlässigen Prozess, der eine fortschrittliche Geräteherstellung ermöglicht. Es ist ideal für genaue Abscheidungsanwendungen auf verschiedenen Substraten, wie supraleitenden Halbleitermaterialien, Präzisionsoptiken und mikroelektromechanischen Systemen (MEMS).