Gebraucht NOVELLUS Concept 3 Speed Max #9352258 zu verkaufen

NOVELLUS Concept 3 Speed Max Reaktor ist ein modernes CVD-Gerät (Chemical Vapor Deposition), mit dem dünne Materialschichten auf Substraten abgeschieden werden. Das System wurde entwickelt, um Dielektrika, Metalle und andere Materialien mit hoher Geschwindigkeit und Gleichmäßigkeit abzuscheiden, so dass Hochleistungsgeräte hergestellt werden können. Diese Einheit nutzt eine vielseitige Multi-Zone-Source-Technologie, um eine verbesserte Homogenität und Kontrolle der Parameter über das Substrat zu gewährleisten. Die Maschine besteht aus einer einzigen All-in-One-Plattform, die aus drei Stufen besteht. Die erste Stufe ist die Hochfrequenz (RF) -Plasmaquelle, die aus einer Plasmaentladungsquelle, einem mehrzonigen HF-kapazitiv gekoppelten Plasmagitter und einem mehrzonigen Magneten zur verbesserten Homogenitätsregelung besteht. Die zweite Stufe ist die CVD-Kammer, die einen Waferkammerheizkopf, einen Abscheidekopf und einen Phenyl-Probenehmer enthält. Der Waferkammerheizkopf dient zur Erwärmung des Wafers, um eine gleichmäßige Abscheidung des Materials zu gewährleisten. Der Abscheidekopf enthält die Prozessquelle, mit der das Material mit der gewünschten Geschwindigkeit in die Kammer eingebracht wird. Der Phenyl-Probenehmer dient zur Messung der Reaktantenkonzentration und zur Überwachung des Abscheidungsprozesses. HF-Plasmaquelle, CVD-Kammer und Phenyl-Sampler arbeiten zusammen, um Concept 3 Speed Max mit optimierter Abscheidungsleistung zu versehen. Das gesamte Werkzeug ist für hohe Ausgangsraten und eine sehr gleichmäßige Abscheidung von dünnen Filmen ausgelegt, was eine außergewöhnliche Prozesswiederholbarkeit und -kontrolle ermöglicht. Darüber hinaus bietet das Asset Zykluszeiten von weniger als einer Minute pro Wafer und ist damit eine kostengünstige Lösung für eine Vielzahl von Produktionsanforderungen. NOVELLUS Concept 3 Speed Max ist eine ausgezeichnete Wahl für diejenigen, die ihre Produktionseffizienz verbessern möchten. Die Kombination aus HF-Plasmaquelle, CVD-Kammer und Phenyl-Sampler bietet eine leistungsstarke Plattform für Hochleistungsgeräte durch überlegene und kontrollierte Abscheidung von dünnen Filmen. Die Zykluszeiten, Steuerbarkeit, Wiederholbarkeit und Homogenität des Modells machen es zu einer idealen Lösung für jede Filmabscheidungssituation.