Gebraucht NOVELLUS Concept 3 Speed NEXT #9203466 zu verkaufen

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ID: 9203466
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2005
CVD System, 12" System information: Process: STI/IMD Slit valve type: SMC L-Motion TM Turbo pump model: PFEIFFER TMH261 PXS TM Throttle valve model: MKS TM Baratron model: MKS Loadlock baratron: MKS IOC Version: V 4.6 TM Robot type: Mag 7 TM Robot blade: Ceramic Wafer sensor: Existence Single tower Front monitor: 12" LCD Fab EMO's: Push button Host interface: GEM ATM Robot: ATR8 VAC Robot: MAG 7 Loadlock valve: SMC ATM Loadlock valve: VAT Pod loader: BROOKS Fixload 6M Module A / B / C: Chamber type: NeXT Chamber Process: SIT/IMP Process clean type: NPP RPC Module controller: MC3 Module turbo pump: LEYBOLD MAGW2000CT Pendulum valve: MKS Temperature monitoring: NTM500 HF Generator: AE 10K MF Generator: AE PDX_5000 LF Generator: AE PDX_8Q00 RF Match: AE Navigator 10013 U IOC Version: V4.72 Dual clean injector kit Injector type: Star short Louvered screen Pedestal lift type: Servo motor Foreline type: Large EPD Black shield Module A: Chamber gas box: MFC Gas MFC Size MFC Model MFC1 SiH4 100 sccm BROOKS SLA7950S MFC2 SiH4 200 sccm BROOKS SLA7950S MFC8 Ar 3000 sccm BROOKS SLA7950S MFC5 H2 1500 sccm BROOKS GF125C MFC3 NF3 5000 sccm BROOKS SLA7950S MFC9 02 500 sccm BROOKS SLA7950S MFC6 Ar 500 sccm BROOKS SLA7950S MFC7 HE 1000 sccm BROOKS SLA7950S Module B: Chamber gas box: MFC Gas MFC Size MFC Model MFC1 SiH4 100 sccm BROOKS GF125C MFC8 Ar 3000 sccm BROOKS SLA7950S MFC5 H2 1500 sccm BROOKS SLA7950S MFC3 NF3 5000 sccm BROOKS GF125C MFC9 02 500 sccm BROOKS SLA7950S MFC7 HE 1000 sccm BROOKS SLA7950S Module C: Chamber gas box: MFC Gas MFC Size MFC Model MFC1 SiH4 100 sccm BROOKS SLA7950S MFC2 SiH4 200 sccm BROOKS SLA7950S MFC8 Ar 3000 sccm BROOKS GF125C MFC5 H2 1500 sccm BROOKS GF125C MFC3 NF3 5000 sccm BROOKS GF125C MFC9 02 500 sccm BROOKS SLA7950S MFC6 Ar 500 sccm BROOKS SLA7950S MFC7 HE 1000 sccm BROOKS SLA7950S UPS Power: 120 V, 3¢, 3 Wires Power: 208 V, 3¢, 5 Wires 2005 vintage.
NOVELLUS Concept 3 Speed NEXT Reaktor ist ein hochmodernes Werkzeug zur chemisch-mechanischen Planarisierung (CMP), das für signifikante Fortschritte bei der Polierkontrolle, Effizienz und Wiederholbarkeit entwickelt wurde. Concept 3 Speed NEXT integriert PECVD-Technologie für schnelle Abscheidung und eine einzigartige, schnelle Kurzhub-Polierausrüstung für verbesserte Leistung. Dieses System ist in der Lage, im Vergleich zu herkömmlichen CMP-Systemen einen erhöhten Durchsatz, verbesserte Gleichmäßigkeit und überlegene Wiederholbarkeit zu erzielen. Der fortschrittliche Positioniermechanismus von NOVELLUS Concept 3 Speed NEXT ermöglicht schnellere, präzisere Polieroperationen. Dies macht es ideal für hohe Produktionsläufe mit empfindlicher Topographie. Das einzigartige Design reduziert auch die mit dem Polierprozess verbundenen Waferschäden erheblich. Concept 3 Speed NEXT verfügt auch über eine elektro-thermische Stabilisierungseinheit, die eine gleichmäßige Temperatur über die Oberfläche eines Wafers während des CMP-Betriebs beibehält und somit konsistente Polierergebnisse gewährleistet. NOVELLUS Concept 3 Speed NEXT ist mit einer Reihe fortschrittlicher Steuerungssysteme ausgestattet, um eine optimale Leistung zu gewährleisten. Dazu gehören ein Servomechanismus mit geschlossenem Regelkreis, der Poliergeschwindigkeit, Kraft und Druck automatisch einstellt, sowie eine dynamische Druckausgleichsmaschine und eine temperaturgeregelte Reinigungsfähigkeit. Die reaktive Kammer ermöglicht auch die Zugabe chemischer Promotoren und Inhibitoren während des Polierprozesses für verbesserte CMP-Ergebnisse. Concept 3 Speed NEXT verfügt auch über eine Reihe von Sicherheitsmerkmalen, wie ein keramisches Heizelement und eine automatische Waferkassettenbelastung, um mögliche Verletzungen weiter zu minimieren. Fortschrittliche Diagnose- und vorausschauende Wartungswerkzeuge tragen dazu bei, dass NOVELLUS Concept 3 Speed NEXT sich immer im Spitzenzustand befindet. Zusammenfassend ist Concept 3 Speed NEXT ein zuverlässiges, hochmodernes chemisch-mechanisches Polierwerkzeug. Seine erweiterten Funktionen bieten überlegenen Durchsatz, Einheitlichkeit und Wiederholbarkeit im Vergleich zu herkömmlichen CMP-Systemen. Zahlreiche ausgeklügelte Steuerungssysteme sorgen für optimierte Leistung und zuverlässige Ergebnisse. Darüber hinaus minimieren Sicherheitsmerkmale und vorausschauende Wartungswerkzeuge das Verletzungsrisiko weiter.
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