Gebraucht NOVELLUS Concept 3 Speed NEXT #9235680 zu verkaufen

NOVELLUS Concept 3 Speed NEXT ist ein CVD-Gerät (Chemical Vapor Deposition), das speziell für fortgeschrittene Halbleiteranwendungen entwickelt wurde. Es bietet die ultimative Hochdurchsatzlösung für Polysilizium, Siliziumoxid und andere Anwendungen. Concept 3 Speed NEXT-Reaktor integriert NOVELLUS neueste fortschrittliche Technologien, einschließlich patentierter Klingenkassettenlieferung, Automatisierung der Robotik und Funktionen für mehrere Temperaturzonen. Sein innovatives Design sorgt für überlegene Fertigungsqualität und Kosteneffizienz. NOVELLUS Concept 3 Speed NEXT beinhaltet eine Niederdruck-Dreigang-Kammer, eine Vorwärmkammer und einen Gaskasten mit 4-Wege-Ventil. Die Niederdruckkammer ist mit hochwertigen Heiz- und Kühlelementen, extrem niedriger thermischer Drift und Niederdruckregelung ausgestattet. Eine mit Metall ausgekleidete Öffnung ermöglicht schnelles Be- und Entladen des Substrats. Die Vorwärmkammer bietet eine zusätzliche Temperaturregelung, um die höchsten Abscheideraten zu gewährleisten. Das System bietet eine präzise Temperaturregelung über ein mehrzoniges beheiztes/gekühltes Futter und beheizte/gekühlte Wände. Es wurde entwickelt, um eine präzise Kontrolle der Filmdicke, Korngröße und Prozessgleichförmigkeit zu gewährleisten. Es bietet auch eine Niederdruck-Lieferung von Vorläufergasen, einschließlich Silan, Schwefelhexafluorid und Helium. Das 4-Wege-Ventil in der Mitte der Einheit ermöglicht eine schnelle und genaue Vorläuferlieferung und schnelle Reaktionszeit. Concept 3 Speed NEXT verfügt auch über eine Vielzahl fortschrittlicher Datensysteme, die einen maximalen Durchsatz erzielen. Sein schneller und zuverlässiger Roboterarm sorgt dafür, dass Wafer schnell und effizient positioniert werden. Seine hohe Automatisierung ermöglicht eine schnelle und einfache Programmierung von Rezepten, um Ablagerungen in Millisekunden zu machen. Insgesamt ist NOVELLUS Concept 3 Speed NEXT eine extrem fortschrittliche Reaktormaschine, die den Anforderungen der fortschrittlichsten Halbleiteranwendungen gerecht wird. Es bietet beispiellose Präzision, Geschwindigkeit und Prozessgleichförmigkeit und ist damit die perfekte Wahl für heutige Hersteller.