Gebraucht NOVELLUS CONCEPT 3 Speed XT #9096022 zu verkaufen

NOVELLUS CONCEPT 3 Speed XT ist ein fortschrittlicher plasmaverbesserter chemischer Dampfabscheidungsreaktor (PECVD). Es ist für die Abscheidung von dünnen Filmen aus einer Vielzahl von Materialien wie Polysilizium, SiO2, a-Si: H, Poly-SiGe, Poly-SiON und Siliziumnitrid konzipiert. Es ist ideal für Anwendungen wie Arbeitsspeicher, Flachbildschirme und Mehrschichtstapel. CONCEPT 3 Speed XT ist mit einer leistungsstarken Elektronenzyklotronresonanz (ECR) -Quelle für verbesserte Leistung und verbesserte Qualität der abgeschiedenen Dünnschichten ausgestattet. Diese Quelle verwendet bis zu vier Mikrowellenfrequenzen, um die kritischen Temperaturen für ein bestimmtes Verfahren zu erhöhen, was wiederum die Qualität der Folien verbessert und zusätzliche Quellwäsche zwischen den Prozessen entfällt. NOVELLUS CONCEPT 3 Speed XT ist auch mit einem 16-Stationen-Wafer-Handling ausgestattet, das bis zu 120 Wafer pro Lauf aufnehmen kann. Dieses System ist für ein effizientes, präzises Be- und Entladen der Wafer ausgelegt und kann die größten Wafergrößen aufnehmen. Es ist auch mit einem einheitlichen Temperaturregler gebaut, um die optimale Abscheidetemperatur über den gesamten Lauf zu halten. CONCEPT 3 Speed XT ist auch mit einer fortschrittlichen ionenunterstützten Abscheidemaschine (IAD) ausgestattet. Dieses Werkzeug ermöglicht eine präzise Steuerung der Dotierstoffe in den Folien, um die genauen Vorgaben jeder Anwendung ohne zusätzliche externe Dotierstoffquellen zu erfüllen. Die IAD-Anlage hilft auch dabei, Partikelverunreinigungen zu reduzieren und die Wiederholbarkeit des Prozesses sicherzustellen. Schließlich verfügt NOVELLUS CONCEPT 3 Speed XT über eine Graphit-Warmwandkammer, die hilft, die Temperatur des Substrats gleichmäßig zu verbessern und unerwünschte Filmerosion zu reduzieren. Diese Kammer ist auch in der Lage, die O2-Strömung zu steuern, um die Abscheidung von Siliziumnitrid und anderen komplexen Stapeln zu erleichtern. Alle Funktionen von CONCEPT 3 Speed XT ermöglichen es ihm, in den komplexesten und anspruchsvollsten Ablagerungsumgebungen eine hervorragende Filmqualität und einen hohen Durchsatz zu bieten. Es ist eine ideale Plattform für die Ablage der neuesten Speicher, Display und Multi-Layer-Stacks für eine breite Palette von Anwendungen.