Gebraucht NOVELLUS Concept 3 Speed #293592759 zu verkaufen

NOVELLUS Concept 3 Speed
Hersteller
NOVELLUS
Modell
Concept 3 Speed
ID: 293592759
HDP CVD System.
NOVELLUS Concept 3 Speed ist ein Hochleistungs-CVD-Reaktor, der in der Halbleiter- und Photovoltaikindustrie eingesetzt wird. Es bietet schnelleres Be- und Entladen von Substraten sowie erhöhten Durchsatz und bessere Prozessgleichförmigkeit. Concept 3 Speed verfügt über drei Verarbeitungsstufen, die jeweils auf unterschiedliche Ergebnisse aus CVD-Prozessen ausgelegt sind. Die erste Stufe besteht aus einem Plasmagenerator und einem karussellgesteuerten Tiegel, der eine automatisierte Substratbeladung ermöglicht. Diese Stufe trägt dazu bei, eine gleichmäßige Beschichtung des gewünschten Materials durch Steuerung des bei der Plasmareaktion verwendeten Gases zu gewährleisten. Die zweite Stufe ist für Hochleistungsabscheidung ausgelegt und nutzt einen abgeschirmten Multi- UT™ (Uniformly Tapered) Duschkopf. Dieser Duschkopf ist so konzipiert, dass er eine präzise, gleichmäßige Verteilung der Abscheidungsgase ermöglicht, was zu schnelleren und höheren Filmabscheidungsraten führt. Schließlich wird die dritte Stufe verwendet, um die Hochgeschwindigkeitsabscheidung und schnelle Abkühlung von Substraten zu ermöglichen. Sie besteht aus einer Abkühlkammer, die die Substratoberfläche direkt kühlt, um eine Filmkühlung und niedrigere Materialtemperaturen zu ermöglichen. Dies hilft, das Risiko einer Überhitzung zu reduzieren, was zu unerwünschten Ergebnissen führen kann. Zusätzlich enthält die dritte Stufe noch ein Niederdrucksystem, das im Kammerinnenvolumen vorhandene Gase evakuiert, um die Kammer sauber zu halten. Abschließend ist NOVELLUS Concept 3 Speed ein fortschrittlicher, leistungsstarker CVD-Reaktor, der eine schnelle Be- und Entladung des Substrats, einen verbesserten Durchsatz und eine bessere Prozessgleichmäßigkeit ermöglicht. Es besteht aus drei Stufen, die jeweils für unterschiedliche, aber wesentliche Funktionen ausgelegt sind, um eine präzise und konsistente Beschichtung für jedes Substrat während des CVD-Prozesses zu gewährleisten.
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