Gebraucht NOVELLUS Concept 3 Vector Express #293641738 zu verkaufen

NOVELLUS Concept 3 Vector Express Reactor ist eine revolutionäre fortgeschrittene physikalische Dampfabscheidung (PVD) Ausrüstung, die ionisierte Atome oder Ionen verwendet, um ultradünne Beschichtungen von Materialien auf verschiedenen Oberflächen abzuscheiden. Die Reaktorabschnitte umfassen eine Ionenquelle und Magnetron-Sputterkammern und werden mit zwei Hochfrequenzgeneratoren und einem leistungsstarken Impulsgenerator betrieben. Die Ionenquelle ermöglicht die Bildung von ionisiertem Gas aus Komponenten wie Stickstoff, Argon und anderen inerten Gasen. Die Magnetron-Sputterkammern verwenden diese Ionen dann, um Ziele aus bestimmten Materialien zu sputtern. Die aufgebrachten Materialien können von Kupfer oder Aluminium bis hin zu Wolfram, Molybdän, Titan oder anderen Metallen und Legierungen reichen. Der Vector Express Reactor ist eine hochpräzise Ausrüstung. Es verfügt über einen Dualzielgenerator und ist in der Lage, mehrere Materialien mit unterschiedlicher Dicke auf Substraten abzuscheiden. Das Dual-Target-Feature ermöglicht die gleichzeitige Verwendung von zwei Zielmaterialien, während die genauen Schichtdicken mit Desktop-Software gesteuert werden. Die Dicke der Beschichtung kann bis zu einer Auflösung von einem Nanometer präzise gesteuert werden. Der Vector Express Reactor verwendet auch ein erweitertes Multi-Surface-Substrat-Haltersystem. Diese Haltereinheit kann entsprechend der Art des aufgebrachten Materials eingestellt werden, wodurch eine gleichmäßige Abscheidung von Folien gewährleistet ist. Mit der Haltemaschine kann auch eine lokalisierte Ionisation auf dem Substrat befeuert werden. Dadurch wird eine gleichmäßige und homogene Beschichtung abgeschieden. Obwohl der Vector Express Reactor ein sehr leistungsfähiges Werkzeug ist, ist seine Komplexität und hohen Betriebskosten am besten für größere Produktionsumgebungen geeignet. Dieser spezialisierte Abscheidereaktor eignet sich gut für die großtechnische Herstellung von Folien mit optimalen Filmeigenschaften und hohen Durchsätzen. Seine digitale Steuerung der Schichtdicken und des lokalen Ionisationsbrennstoffs ist auch ideal für die Herstellung von Halbleitern, MEMs, LEDs und optischen Bauelementen.