Gebraucht NOVELLUS CONCEPT 3 Vector #9281484 zu verkaufen

NOVELLUS CONCEPT 3 Vector ist eine Single-Wafer Chemical Vapor Deposition (CVD) Reaktorausrüstung, die für fortschrittliche Metallabscheidungsprozesse entwickelt wurde. Es weist eine Dreizonenkonstruktion auf, die eine Vorwärmkammer, eine Abscheidekammer und eine Kühlzone umfasst. Die Vorwärmkammer ist in der Lage, mit wenig heißem Band auf Temperaturen von 450 ° C zu rampen, was eine Vorkonditionierung einer Vielzahl von Waferoberflächen ermöglicht. Die Abscheidekammer weist eine einzigartige Parallelplattenkonfiguration mit zwei unabhängig voneinander betriebenen Plasmakammern auf, die eine Niedrigtemperaturregelung der Quellgase und eine bessere Gleichmäßigkeit der Abscheidung ermöglicht. Die Kühlzone ermöglicht eine schnelle Abkühlung der Wafer und beinhaltet einen automatisierten QC-Port zur schnellen Waferanalyse. CONCEPT 3 Vector ist mit hohem Durchsatz konzipiert und sein MOVe GAP Wafer-Handling-System ist für eine schnelle Waferbearbeitung optimiert. Es wird mit einer Reihe von Funktionen geliefert, die helfen, die Gleichmäßigkeit zu verbessern, den Waferabstand zu minimieren und die Beanspruchung der Wafer zu minimieren. Darüber hinaus ist Vector mit einer Reihe von Sputter- und elektrochemischen Bearbeitungswerkzeugen ausgestattet, wie z.B. einem Kippwinkelsputterkarussell, einem rotierenden Sockel für erhöhte Durchgangsscheibengleichförmigkeit und einer Einheit zum Kippen des Karussells für optimale Station-zu-Station-Gleichmäßigkeit. Die Maschine ist auch mit Funktionen wie Folienbecher zur Verringerung metallischer Verschmutzungen und einem automatisierten Verriegelungswerkzeug zur Prozessoptimierung konzipiert. Die Prozesssteuerung von Vector wird durch die proprietäre SenPlace™-Software NOVELLUS ermöglicht, eine Plattform, die fortschrittliche Prozessüberwachungs-, Steuerungs- und Optimierungstechniken verwendet. SenPlace ermöglicht es Benutzern, eine Vielzahl von Prozessparametern in Echtzeit zu überwachen, Prozessrezepte im Handumdrehen anzupassen und die Gleichmäßigkeit über die Waferoberfläche zu gewährleisten. Es bietet auch eine Vielzahl von Alarmen und Sicherheitsmerkmalen, um sicherzustellen, dass Prozesse ohne unerwartete Ergebnisse durchgeführt werden. Insgesamt ist NOVELLUS CONCEPT 3 Vector ein fortschrittliches und vielseitiges Einzel-Wafer-Deposition-Asset, das unter Berücksichtigung von Durchsatz und Gleichmäßigkeit entwickelt wurde. Es ist geeignet für eine Vielzahl von Abscheidungsprozessen, einschließlich niedrige Temperatur CVD, Aluminiumnitrid, Titannitrid und Wolfram.