Gebraucht NOVELLUS CONCEPT 3 #293644796 zu verkaufen
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NOVELLUS CONCEPT 3 ist ein fortschrittlicher planarer winkelförmiger PECVD-Reaktor (plasma enhanced chemical vapor deposition), der eine hervorragende Filmabscheidungsleistung liefert. Dieses System ist für die ultradünne Abscheidung und Modifizierung von Siliziumnitrid, Siliziumoxynitriden und Siliziumoxiden mit ausgezeichneter Gleichmäßigkeit und Folienqualität optimiert. Mit seiner einzigartigen Doppelfrequenz-Kompatibilität ermöglicht CONCEPT 3 eine verbesserte Partikeldichtekontrolle und eine überlegene Filmleistung gegenüber herkömmlichen Systemen. Der NOVELLUS CONCEPT 3 Reaktor besteht aus einer fortschrittlichen, mehrfrequenten PECVD-Prozesskammer und einem HF-Matching-Netzwerk. Das HF-Anpassungsnetzwerk ist für eine optimale Impedanzanpassung zwischen dem Stromgenerator und der Prozesskammer ausgelegt und sowohl für Parallel- als auch für Serienresonanz sowie für niedrige und hohe Frequenzen einstellbar. Neben der Eliminierung von Hot Spots und der Anpassung der Impedanz für eine verbesserte Prozessgleichförmigkeit und Wiederholbarkeit verbessert dieses HF-Matching-Netzwerkdesign die Energieeffizienz und senkt die Betriebskosten. Die Prozesskammer des CONCEPT 3 ist mit einem hochdichten HF-Generator und einem Dual-Frequenz-Anregungssystem ausgestattet, um sowohl nieder- als auch hochfrequente Wellen gleichzeitig zu erzeugen. Dies trägt dazu bei, die Integrität des Prozeßplasmas zu erhalten und gleichzeitig ein schnelles und gleichmäßiges Filmwachstum auf der Substratoberfläche zu fördern. Diese Zweifrequenzanordnung hilft auch, die externe Ätzrate zu reduzieren und verhindert die Freisetzung unerwünschter Partikel bei reaktiven Ionenätzschritten (RIE). Das in sich geschlossene PECVD-System wurde zusammen mit der speziell entwickelten Code-konformen Prozesskammer streng auf Zuverlässigkeit und Langlebigkeit getestet. Die robuste Konstruktion sorgt für optimale Leistung über eine Reihe von verschiedenen industriellen Prozessen und Anwendungen. NOVELLUS CONCEPT 3 bietet zudem Touch-Screen-Cluster-Steuerelemente, webbasiertes Anwendungsmanagement sowie leistungsstarke Diagnose- und Rezeptortungsfunktionen. Insgesamt ist CONCEPT 3 eines der fortschrittlichsten PECVD-Systeme auf dem Markt und bietet überlegene Prozesssteuerung, wiederholbare Leistung und effiziente Filmabscheidung. Es ist ideal für eine Vielzahl von Abscheidungsprozessen, wie ultradünne Filmabscheidung, Hartmaskenabscheidung, Strukturierung und Bildung von Metall/dielektrischen Schichten. Die Kombination aus leistungsstarken Funktionen, fortschrittlicher Technologie und benutzerfreundlichem Design macht NOVELLUS CONCEPT 3 zu einer zuverlässigen und effizienten PECVD-Lösung für jede moderne Fertigungsumgebung.
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