Gebraucht NOVELLUS CONCEPT 3 #9262617 zu verkaufen

NOVELLUS CONCEPT 3 ist ein CVD-Reaktor mit fortschrittlicher Plasmatechnologie, der den Anforderungen der High-End-Halbleiterherstellung gerecht wird. CONCEPT 3 Reaktor ist speziell für fortschrittliche Materialien und Abscheidungsprozesse im Zusammenhang mit hoher Gerätekomplexität, dielektrischen Filmen, verschiedenen thermischen Oxidschichten und Low-K-Dielektrika konzipiert, die anspruchsvolle Erstausbeuten und eine geringe Fehlerproduktion erfordern. Der NOVELLUS CONCEPT 3 Reaktor ist in der Lage, Wafer bis zu einer Größe von 300 mm zu handhaben und bietet variable Plasmaleistungsoptionen mit einer hohen Leistungsfähigkeit von bis zu maximal 1000W. Sein Design basiert auf einer integrierten vertikalen Vorspannungselektrode, die eine innovative Plasmaionisation aufweist, die eine stabile und gleichmäßige Plasmaentladung fördert. Eine Schicht aus Seltenerdgatteroxid (REE) sorgt für mehr Gleichmäßigkeit und Stabilität. CONCEPT 3 nutzt eine Reihe automatisierter Steuerungssysteme, um sicherzustellen, dass Ablagerungsrezepte innerhalb bestimmter Ziel- und Toleranzbereiche bleiben. Durch den Einsatz intelligenter Sensoren wird die Gleichmäßigkeit und kontinuierliche Überwachung von Vakuum- und Plasmaparametern gewährleistet. Diese Kontrollen bieten eine sichere und zuverlässige Ablagerungsumgebung, um Konsistenz und Zuverlässigkeit zu gewährleisten. NOVELLUS CONCEPT 3 Reaktor ist für schnelle Abscheidungsraten, hohen Metallgehalt und erweiterte Substratverträglichkeit konzipiert. Es kann eine Vielzahl von Materialquellen aufnehmen, einschließlich einer Auswahl an hochwertigen Oxidfilmen, Nitriden, Siliziden, Wolframcarbiden und Metallen wie Molybdän, Tantal und Wolfram. Der Reaktor ist in der Lage, Substrate vorzukonditionieren und eine enge Prozesssteuerung zu erzeugen. Dieser Reaktor bietet auch eine hervorragende Temperaturregelung und Leistungsoptimierung, mit hoher Temperaturgleichförmigkeit, schnellen thermischen Rampenraten und wiederholbaren Prozessergebnissen. CONCEPT 3 ist in der Lage, einheitliche Ätzprofile zu erstellen und verfügt über eine patentierte Dreifachfrequenz-Plasmaquelle, die eine erweiterte Lochverengung, eine hohlraumfreie halbkugelförmige Kornabscheidung und eine erhöhte Filmhaftung ermöglicht. Weitere Merkmale sind ein Plasmagenerator mit hoher Gleichmäßigkeit, eine integrierte Planarisierungsquelle, eine Prozesssteuerung mit geschlossenem Regelkreis und eine fortschrittliche Automatisierung. Zusammenfassend ist NOVELLUS CONCEPT 3 ein CVD-Reaktor auf Produktionsebene, der anspruchsvolle Fertigungsanforderungen im Zusammenhang mit hohem Durchsatz, Erstausbeuten und geringer Fehlerproduktion erfüllt. Es kann Wafer bis zu 300mm Größe handhaben und verfügt über variable Leistungsoptionen, eine Schicht aus Seltenerdgatteroxid und automatisierte Steuerungssysteme für eine sichere und zuverlässige Abscheidung. CONCEPT 3 ist für die Vorkonditionierung von Substraten und die Erzielung einer engen Prozesssteuerung sowie für schnelle thermische Rampenraten, Dreifachfrequenz-Plasmaquellen und fortschrittliche Automatisierung optimiert.