Gebraucht NOVELLUS CONCEPT One-150 #9248603 zu verkaufen

NOVELLUS CONCEPT One-150 ist ein CVD-Reaktor (Chemical Vapor Deposition), der für den Einsatz in der fortschrittlichen Halbleiterherstellung entwickelt wurde. Es bietet eine präzise Verarbeitung von Materialien wie Polysilizium, Siliziumoxid und Aluminiumtitannitrid (AlTiN) -Folien. Mit optimierter Quellenlieferung und Kontrolle ist NOVELLUS CONCEPT ONE 150 in der Lage, präzise und gleichmäßige Schichten mit einer Dickenauflösung von bis zu 4 Nanometern abzuscheiden. Es liefert konsistente, wiederholbare Ergebnisse für die Groß- und Kleinserienproduktion. CONCEPT ONE - 150 ist auf eine verbesserte Produktivität ausgelegt und mit einer breiten Palette von n-typischen und p-typischen Siliziumsubstraten kompatibel. Seine proprietäre Quelle Lieferung Ausrüstung gewährleistet die Lieferung von einem stetigen Strom von Chemikalien ohne Leckage oder unerwünschte Verunreinigungen. Auch die Abgabe von Chemikalien wird durch das System exakt gesteuert und ermöglicht konsistente Schichten mit einer Gleichmäßigkeit von weniger als ± 2%. Die Reaktionskammer von CONCEPT One-150 ist für eine streng kontrollierte und effiziente Durchmischung von Quellgas ausgelegt, die effiziente Reaktionen und eine verbesserte Folienqualität ermöglicht. Die Reaktion in NOVELLUS CONCEPT ONE - 150 wird mit fortschrittlicher Software gesteuert. Es verfügt über eine leistungsstarke und robuste Suite von Prozesssteuerungsfunktionen, die eine Echtzeitsteuerung, Datenerfassung und -analyse ermöglicht. Die Anzeigeeinheit von CONCEPT ONE 150 ist für eine intuitive Bedienung konzipiert, so dass der Bediener schnell auf Informationen zugreifen und sie interpretieren kann, die für die Aufrechterhaltung des gewünschten Prozesses erforderlich sind. Erweiterte Diagnosen, einschließlich Online-Video der Reaktionskammer, bieten detaillierte Leistungsanalysen. Die Maschine ist auch mit Sicherheitsmerkmalen wie Überdruckschutz, Umweltüberwachungssystemen und aktiver Ozonüberwachung ausgelegt. NOVELLUS CONCEPT One-150 bietet die Fähigkeit, Schichten von Sub-Nanometer-Dimensionen zu verarbeiten und ermöglicht die Herstellung fortschrittlicher Halbleiterbauelemente. Es wurde erfolgreich in einer Vielzahl von CVD-Anwendungen eingesetzt, zum Beispiel die Abscheidung von Aluminiumnitrid-Gates für fortgeschrittene VLSI-Verfahren. Das Tool bietet eine verbesserte Wiederholbarkeit für Prozessoptimierung und Durchsatz und ermöglicht eine schnellere und zuverlässigere Produktion. NOVELLUS CONCEPT ONE 150 ist ein Beispiel für modernste CVD-Technologie für die fortschrittliche Halbleiterherstellung.