Gebraucht NOVELLUS CONCEPT One-150 #9250099 zu verkaufen

NOVELLUS CONCEPT One-150 ist ein Single-Wafer Chemical Vapor Deposition (CVD) Reaktor. Es ist für die Abscheidung verschiedener dielektrischer und leitfähiger Materialien auf Substraten unter präzisen Steuerbedingungen ausgelegt. Der Reaktor verwendet eine Einwafer-Ladelasche, einen Duschkopfverteiler, einen Gasablaufkrümmer, zwei Hochfrequenzquellen und eine hochfrequente Turbine. Mit dem Einzel-Wafer-Loadlock kann NOVELLUS CONCEPT ONE 150 jeweils ein Substrat verarbeiten. Das System ist mit Schnellwechseleinlagen ausgelegt, wodurch die Prozesskammer bei Bedarf schnell auf ein neues Rezept umgestellt werden kann. Das Loadlock ist auch mit einem Ofen ausgestattet, um ein kontrolliertes thermisches Backen des Substrats zu ermöglichen, bevor eine Abscheidung eingeleitet wird. Darüber hinaus gewährleistet eine ausgeklügelte Pumpensteuerung, dass die Kammer vor der endgültigen Substratbeladung präzise auf Atmosphärendruck gehalten wird. Anschließend verteilt der Brausekopfverteiler das Prozessgas gleichmäßig über die Waferoberfläche, um eine gleichmäßige Filmabscheidung zu gewährleisten. Diese Genauigkeitsverteilung wird durch die Verwendung von drei unabhängigen Strömungswegen mit jeweils 30 separaten Austrittsöffnungen erreicht. Die Strömungssteuerung wird durch die Dualheiden-HF-Quelle und Turbine verbessert, die verwendet werden, um eine gleichmäßigere Verteilung bei höheren Strömungsgeschwindigkeiten zu erzeugen. Nach der ersten Verteilung wird das Gas durch das zweistufige Gasablassystem aus dem Reaktor entfernt. Die erste Stufe sorgt dafür, dass das Gas schnell vom Substrat abgezogen und aus der Kammer abgeführt wird. Die zweite Stufe verwendet eine Rezirkulationskammer, die Restverunreinigungen zur weiteren Analyse einfängt. Schließlich erzeugt die hochfrequente Turbine innerhalb des Reaktors ein magnetisches und elektrisches Wechselfeld. Dieses Wechselfeld ermöglicht das Schwingen von Elektronen, wodurch ein hochenergetischer Zustand geschaffen wird, der ideal ist, um Atome von den Gasquellen auf das Substrat zu plattieren. Abschließend ist CONCEPT ONE - 150 ein vielseitiger Single-Wafer-CVD-Reaktor, der für die präzise Abscheidung verschiedener Materialien ausgelegt ist. Es verfügt über eine Einzel-Wafer-Ladeschloss, Duschkopfverteiler, Gasablasskrümmer, zwei HF-Quellen und eine HF-angetriebene Turbine. Diese Komponenten arbeiten zusammen, um eine gründlich gleichmäßige Abscheidung mit minimaler Kontamination und schnelleren Prozessraten zu erzielen.