Gebraucht NOVELLUS CONCEPT One-200 #293763726 zu verkaufen
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ID: 293763726
Wafergröße: 8"
Weinlese: 1992
PECVD System, 8"
Process: SiO2 / TEOS
Gas: N2, O2, C2F6
EBARA AA10 Pump
EBARA AAS200WN
Transformer
Power system
1992 vintage.
NOVELLUS CONCEPT One-200 ist ein einzigartiges und revolutionäres Etch/Dep-Tool für fortschrittliche Technologieknoten. Es ist für die Serienfertigung von hochmodernen Integrated Circuit (IC) Geräten und Chips konzipiert. Dieses Ätz-/Dep-Werkzeug erreicht eine überlegene Gleichmäßigkeit zwischen Wafer und Across-Wafer, was zu einer hervorragenden Leistung, Erträgen und Zuverlässigkeit der Endgeräte führt. Das Gerät verwendet eine plasmabasierte reaktive Ionenätzung (RIE) und eine CVD-Technologie (Metal Deposition), die hochkonzentriertes Plasma zum Ätzen und Abscheiden von Materialien verwendet. Das Plasma, das mit einer großen Stromquelle hergestellt wird, ermöglicht eine präzisere Steuerung des Ätzprozesses, wodurch in bestimmten Bereichen des IC tiefer und gleichmäßiger geätzt werden kann. Das Plasma hilft auch, Materialien genauer abzuscheiden, was zu einer dünneren und gleichmäßigeren Metallschicht führt. Das System verfügt auch über eine fortschrittliche Wafer-Handhabungseinheit, die ausgeklügelte Roboterarme verwendet, um Wafer mit Präzision zu bewegen und zu drehen, was eine präzise Positionseinstellung ermöglicht und eine sehr niedrige Temperaturkondensation der Plasmaspezies während der Übertragung des Wafers in die Prozesskammer ermöglicht. Dies trägt zur Erhöhung der Materialgleichförmigkeit bei und ermöglicht höhere Schichtzahlen und eine verbesserte Geräteleistung. CONCEPT One-200 verwendet einen modularen Aufbau, der sich aus drei Prozesskammern, einer Transferkammer und einer subatmosphärischen Prozesskammer zusammensetzt. Dies ermöglicht das gleichzeitige Abscheiden und Ätzen auf einem einzigen Wafer in jeder der drei Prozesskammern und ermöglicht somit einen hocheffizienten und kostengünstigen Herstellungsprozess. Das Werkzeug ist auch in der Lage, mehrere Wafer gleichzeitig zu verwalten, was den Durchsatz der Maschine erhöht. Das Werkzeug verfügt auch über eine fortschrittliche Kühlvorrichtung, um die Temperatur innerhalb der Kammern zu regulieren und einheitliche Prozessbedingungen über den gesamten Wafer zu gewährleisten. Dies hilft Partikelverunreinigungen zu reduzieren und kann sogar die Lebensdauer der Ätz-/Dep-Werkzeuge verlängern. Insgesamt ist NOVELLUS CONCEPT One-200 ein revolutionäres Ätz-/Dep-Werkzeug, das die Serienfertigung von ICs auf die nächste Stufe heben kann. Es bietet überlegene Gleichmäßigkeit und Erträge, während mehrere Wafer parallel verarbeitet werden können. Das fortschrittliche Wafer-Handling-Modell und der modulare Aufbau tragen dazu bei, seine Effizienz und Wirtschaftlichkeit weiter zu steigern.
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