Gebraucht NOVELLUS CONCEPT One C1-150 #9171330 zu verkaufen

NOVELLUS CONCEPT One C1-150 ist ein dreizoniges horizontales Reaktordesign für Anwendungen in der Halbleiterindustrie. Dieser Reaktor nutzt fortschrittliche Prozesskontrolltechnologie, um eine optimale Abscheidungsgleichmäßigkeit und Wiederholbarkeit zu erreichen. Eine breite Palette von Prozessparametern, wie Leistungs-, Gasfluss- und Druckmessung, werden überwacht, um die richtige Filmqualität sicherzustellen. Die Kammer des Reaktors ist von vorne nach hinten in drei unabhängige Zonen unterteilt: die Vorwärmzone, die Reaktionszone und die Abkühlzone. Jede Zone ist mit einem eigenen Duschkopf, Temperaturen und Gasfluss ausgestattet. Heiße und kalte Gaszufuhren werden nacheinander in die Kammer eingespeist, um eine präzise Steuerung der atmosphärischen Parameter und des Prozesszeitpunkts zu ermöglichen. Zwischen diesen Zonen wird der Gasstrom ausgeglichen, um gewünschte Werte für Gasdruck, Geschwindigkeit, räumlich gleichmäßige Konzentration von Reaktanden und ein gleichmäßiges Temperaturprofil über die Kammer zu erreichen. Das Substrat wird auf einem Lastschloßmodul durch die Kammer bewegt. Das Lastschloßmodul ist so ausgelegt, daß es den Druck innerhalb des Reaktors auf einem bestimmten Niveau hält, so daß Material ohne Entlüftung sicher von der Kammer in den Abscheidungsbereich überführt werden kann. Die Vorwärmzone sorgt dafür, daß das Substrat vor Eintritt in die Reaktionszone die gewünschte Temperatur erreicht. Die Reaktionszone kann zur Steuerung der Temperatur, des Gasstroms und des Drucks im Duschkopf manipuliert werden. Die Abscheidung erfolgt dabei, da die Reaktanden eine chemische Reaktion auf der Oberfläche des Substrats durchlaufen und die Reaktantendicke über Zeit- und Leistungsregelung gesteuert wird. Mit der Abkühlzone wird das Substrat vor dem Austritt aus der Reaktionskammer auf die gewünschte Temperatur abgekühlt. CONCEPT One C1-150 Reaktor ist ein fortschrittliches System, das Flexibilität und präzise Kontrolle über Abscheidungstemperatur, Druck, Durchflussmenge und Reaktantkonzentrationen ermöglicht. Dies macht es ideal für Sputter und konforme Filmabscheidung für Halbleiteranwendungen. Das C1-150 ist für eine Vielzahl von Materialien wie Gold, Kobalt, Titannitrid und Tantal zugelassen. Mit seiner präzisen Prozesssteuerung und Gleichmäßigkeit der Abscheidung ist es eine ausgezeichnete Wahl für industrielle Prozesse.