Gebraucht NOVELLUS CONCEPT One #9096031 zu verkaufen

NOVELLUS CONCEPT One
Hersteller
NOVELLUS
Modell
CONCEPT One
ID: 9096031
Wafergröße: 6"
Weinlese: 1996
Nitride / TEOS System, 6", 1996 vintage.
NOVELLUS CONCEPT One ist ein Hochdurchsatz-Reaktor auf Plasmabasis, der speziell für fortschrittliche Halbleiterherstellungsprozesse entwickelt wurde. Es ist in der Lage, Prozesslösungen in einer Single-Wafer-Umgebung bereitzustellen, die eine erhöhte Produktivität, Einheitlichkeit und Skalierbarkeit für Fabs ermöglicht. NOVELLUS CONCEPT ONE wird von Drossom angetrieben, einer patentierten Niedertemperatur-Bogenplasmaquelle, die ultrahohen Ionenfluss liefert (bis zu 10 ^ 20 Ionen/cm2/sec). Dies gibt ihm die Möglichkeit, die Oberflächen von Wafern vor der Plasmabearbeitung vorzureinigen und zu verbessern. Es ist das einzige seiner Art, das diesen ultrahohen Ionenfluss unter Beibehaltung niedriger Gesamtbetriebskosten anbietet. CONCEPT One verfügt auch über ein Pulsar-Vorreinigungsmodul, das eine Hochtemperaturverarbeitung mit einer einzigen Niederdruck-Prozesskammer ermöglicht. Dieses Modul kann zur Behandlung von Herausforderungen wie Kohlenstoffabscheidung und musterinduzierten Ertragsverlust eingesetzt werden. Sie ermöglicht es dem Anwender auch, den Prozessdurchsatz zu erhöhen und eine höhere Gleichmäßigkeit der Folie zu erreichen. CONCEPT ONE verfügt über eine verteilte Architektur mit vier Reaktoren, die zwei oder vier Prozesse für maximalen Durchsatz kombinieren. Dies ermöglicht eine schnelle Skalierung und unterstützt fortgeschrittene Prozesse wie Polysiliziumabscheidung und Dotierung. Der Reaktor ist hochgenau und verwendet fortschrittliche Auto-Tune-Algorithmen für eine schnelle Optimierung und Wiederholbarkeit. NOVELLUS CONCEPT One ist eine revolutionäre Plattform für die Herstellung von Halbleitern der nächsten Generation mit einer beispiellosen Kombination aus hochgenauen Prozesssteuerungen, außergewöhnlicher Einheitlichkeit und schnellem Durchsatz. Es bietet eine ideale Lösung für hohe Produktionskapazitäten und ist der einzige Hochdurchsatzreaktor, der für fortschrittliche Prozesstechnologien entwickelt wurde.
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