Gebraucht NOVELLUS CONCEPT One #9096052 zu verkaufen

NOVELLUS CONCEPT One ist ein fortschrittlicher Technologie-Etch-Reaktor, der von NOVELLUS Systems, Inc. für hochmoderne Siliziumätzanwendungen entwickelt wurde. Dieser Reaktor verfügt über die Dynamic End Point Control (DEPC) -Technologie, die es ermöglicht, drastisch höhere Ätzraten, eine bessere Prozesssteuerung und eine verbesserte Overlay-Registrierung für eine ultimative Prozessverbesserung in der Halbleiterproduktion zu erreichen. NOVELLUS CONCEPT ONE verwendet die patentierte DEPC-Technologie, die es dem Reaktor ermöglicht, den chemisch unterstützten reaktiven Ionenätzprozess (CARE) präzise zu steuern, indem die Geschwindigkeit, mit der Ionen in den Prozess eingebracht werden, verwaltet und auf veränderte Endpunktbedingungen reagiert wird, um die beste Prozessleistung zu erzielen. Diese Technologie ermöglicht es dem Reaktor auch, den Zustand des Ätzprozesses in Echtzeit zu überwachen und auszuwerten, was zu höheren Ätzraten und verbesserter Prozessgenauigkeit führt. CONCEPT One Reaktor verfügt auch über eine patentierte und hochmoderne Kammergeometrie, die Gasgeräusche reduziert und die Prozessstabilität erhöht. Dieser Reaktor ist mit einem Fast Forward Gas Delivery System ausgestattet, das eine schnelle und präzise Gaszufuhr ermöglicht, und einem proprietären Contactor Edgestripet, das glatte Kanten und bessere anisotrope Ätzprofile bietet. Für ultimative Leistung kann der CONCEPT ONE Reaktor mit einer Vielzahl fortschrittlicher Prozesssteuerungsoptionen konfiguriert werden, einschließlich Prozessüberwachung, Prozess- und Qualitätssicherung, Prozessdatensammlung und Prozessrezeptmanagement, die eine vollständige Prozesssteuerung und verbesserte Betriebseffizienz ermöglichen. Der Reaktor unterstützt auch fortschrittliche Prozessrezepte für ein breites Anwendungsspektrum, was die Prozessflexibilität und Kontrolle weiter erhöht. Abschließend ist NOVELLUS CONCEPT One der ideale Ätzreaktor für die fortschrittliche Halbleiterproduktion, der höhere Ätzraten, eine bessere Prozesssteuerung, eine verbesserte Overlay-Registrierung und eine höhere Prozessstabilität ermöglicht und somit das perfekte Werkzeug zur Verbesserung von Halbleiterherstellungsprozessen ist.