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NOVELLUS CONCEPT One
Hersteller
NOVELLUS
Modell
CONCEPT One
ID: 9148239
Weinlese: 1999
CVD system W CVD Teos 1999 vintage.
NOVELLUS CONCEPT One ist ein fortschrittlicher CVD-Reaktor (Chemical Vapor Deposition), der es Werkstoffwissenschaftlern und Ingenieuren ermöglicht, hochleistungsfähige, ultragleiche Dünnschichtbeschichtungen zu erstellen. Angetrieben wird es von der leistungsstarken NOVELLUS CONCEPT ONE CVD-Plattform, die eine ultrapräzise Temperatur-, Druck- und Kompositionssteuerung bietet. Dadurch wird sichergestellt, dass die exakte Zusammensetzung und Gleichmäßigkeit der Beschichtung jedes Mal erreicht wird. CONCEPT One System ist in der Lage, eine gleichmäßige, konsistente Abscheiderate sowie eine hohe Gleichmäßigkeit der Foliendicke zu liefern. Dies wird durch eine Reihe von Merkmalen ermöglicht, darunter die einbettbare Trockenfilmdüse, das Doppelkammerdesign und den elektro-optischen Kopf der nächsten Generation. Die einbettbare Trockenfilmdüse von CONCEPT ONE ist insofern einzigartig, als sie einfach an eine Reihe von Anwendungsprozessen wie Ätzen, Abscheiden und Sputtern angepasst werden kann. Dies hilft effektiv, die Abscheidegeschwindigkeit anzupassen und gleichzeitig ultragleichmäßige Abscheidungsgeschwindigkeiten zu ermöglichen. NOVELLUS CONCEPT Das Zweikammerdesign dient zwei Zwecken. Zunächst enthält die innere Kammer eine variable Druckumgebung, mit der die Temperatur des Abscheideprozesses gesteuert wird. Dies wird erreicht, indem je nach den Eigenschaften des zu verarbeitenden Materials entweder Argon, Stickstoff oder Luft verwendet wird. Die Außenkammer von NOVELLUS CONCEPT ONE dient dann als Umweltkammer, sorgt für eine isolierte Atmosphäre um die Düse herum und reduziert die Wirkung äußerer Umweltveränderungen auf den Beschichtungsprozess. Dies ermöglicht Wiederholbarkeit und Konsistenz der Ergebnisse. CONCEPT One verfügt zudem über einen innovativen elektrooptischen Kopf. Dadurch wird die Intensität des aufgebrachten Beschichtungsstrahls gemessen und eingestellt, so dass die optimale Strahlenergie zur Erzeugung der gewünschten Beschichtung verwendet wird. Dies optimiert die Abscheidegeschwindigkeit und führt zu einer hohen Gleichmäßigkeit der Beschichtungen. Insgesamt ist CONCEPT ONE ein fortschrittlicher chemischer Dampfabscheidungsreaktor, der es Werkstoffwissenschaftlern und Ingenieuren ermöglicht, hochleistungsfähige, ultragleiche Dünnschichtbeschichtungen zu erstellen. Angetrieben wird es von der leistungsstarken NOVELLUS CONCEPT One CVD-Plattform, die eine ultrapräzise Temperatur-, Druck- und Kompositionssteuerung bietet. Es verfügt außerdem über eine einbettbare Trockenfilmdüse, ein Doppelkammerdesign und einen elektrooptischen Kopf der nächsten Generation, die alle effektiv dazu beitragen, eine einheitliche, hochwertige Beschichtung zu schaffen.
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