Gebraucht NOVELLUS CONCEPT One #9158667 zu verkaufen

NOVELLUS CONCEPT One ist eine revolutionäre Reaktortechnologie, die von NOVELLUS Systems für den Einsatz in fortschrittlichen Halbleiterproduktionsprozessen entwickelt wurde. Der Reaktor besteht aus einem Graphit-Wiedereintrittsbehälter, einer erwärmten Prozesszone und einer Quarz-Inline-Isolierung um die Prozesszone. Das Gefäß enthält eine gestufte, geschlossene Schleifenstruktur mit fünf Abschnitten; Hauptleitungsventil, vorgelagerte Ventile, nachgelagerte Ventile, Vorreaktor und Reaktor. Das Hauptleitungsventil dient als Einlaßventil und steuert den Prozessgasstrom in den Reaktor, um die gewünschten Prozessbedingungen zu schaffen. Die Upstream-Ventile werden verwendet, um den Vordruck zu steuern und den Prozessstart zu initiieren, und die Downstream-Ventile werden verwendet, um den Druck zu regeln, um die gewünschten Prozessbedingungen aufrechtzuerhalten. Der Abschnitt Pre-Reactor enthält die Substratheizung, die eine gleichmäßige Erwärmung der Prozesszone vor dem Reaktor ermöglicht. Der Reaktorabschnitt besteht dann aus zwei Kammern, der Prozesskammer und der Substratkammer. Die Prozesskammer enthält den Gasinjektor, mit dem das gewünschte Prozessgas in die Kammer eingeleitet wird, und die Massenstromregler, die das Gas gleichmäßig durch die Kammer verteilen. Eine Edelstahlauskleidung innerhalb der Prozesskammer ist mit einer Graphitisolierung ausgekleidet, während die Quarzisolierung an der Außenseite der Kammer angeordnet ist. Dies trägt zur Aufrechterhaltung der Temperatur der Prozesszone bei, während die Prozesskammer selbst horizontal ausgebildet ist, um eine gleichmäßige Heizgeschwindigkeit zu gewährleisten. Die Substratkammer enthält auch eine Quarz-Isolationsschicht, um die gewünschte Temperatur beizubehalten, sowie Quarz-beschichtete Gasinjektoren und Massenstromregler, um eine gleichmäßige Anwendung von Prozessgas während des Halbleiterherstellungsprozesses zu ermöglichen. NOVELLUS CONCEPT ONE Reaktor soll gleichmäßige Hochtemperaturprozesse in das Substrat liefern. Es hat sich bereits als zuverlässiges und effektives System für die fortschrittliche Halbleiterproduktion erwiesen, mit einem vereinfachten und effizienten Design, das Flexibilität, leicht einstellbaren Gasfluss und minimale Wartungsanforderungen ermöglicht.