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NOVELLUS CONCEPT One ist ein fortschrittliches Reaktorsystem mit einem Wafer für die Halbleiterherstellung. Es kombiniert die neueste Dünnschichtabscheidungstechnologie mit hohem Durchsatz und niedrigen Betriebskosten mit revolutionären neuen Funktionen zur Erhöhung der Prozessfähigkeit und Zuverlässigkeit. Im Kern beherbergt NOVELLUS CONCEPT ONE mehrere Abscheidungsreaktoren, die mit neuen oder bestehenden Thin Film Deposition Prozessen (TFDPs) konfiguriert sind. Diese Reaktoren sind in der Lage, dünne Filme der technologisch anspruchsvollsten Materialien wie Ultra-High-K-Dielektrika, Oxide, Nitride und Metalloxide abzuscheiden. Insgesamt bietet CONCEPT One einen einzigartigen, kostengünstigen Ansatz zur Dünnschichtabscheidetechnologie. Das hochmoderne Design bietet eine Multi-Reaktor-Inline-Formationslösung, die auf eine Vielzahl von Prozesstechnologien zugreifen kann. Es ermöglicht beispiellose Vorhersagbarkeit, Wiederholbarkeit und Gerätelebensdauer bei wesentlich geringeren Prozesskosten. KONZEPT hat MAN mehrere verschiedene Vorteile gegenüber der traditionellen einzelnen Oblate Nichtreihenabsetzungssysteme. Zum einen wurde seine automatisierte, integrierte Plattform entwickelt, um die Leistung und Effizienz einer Vielzahl von Prozesstechnologien ohne manuelle Arbeit zu maximieren. Durch den Verzicht auf separate Kammern und Systeme für jede Phase des Abscheidungsprozesses bietet NOVELLUS CONCEPT One eine kostengünstigere, zuverlässigere und wiederholbare TFDP-Lösung. Darüber hinaus nutzt NOVELLUS CONCEPT ONE ein bewährtes Durchflussreaktor-Design, das Gleichmäßigkeit über die Wafer garantiert und außergewöhnliche Präzision und Wiederholbarkeit liefert. Durch den Einsatz eines modularen Aufbaus ermöglicht CONCEPT One den Anwendern, Reaktoren schnell auf die bestmögliche Leistung für jede Anwendung anzupassen. Darüber hinaus sorgen der fortschrittliche Oberflächenanalysator und die In-situ-Gaskontrolltechnologie von CONCEPT ONE dafür, dass der Wafer jederzeit einheitlich ist und höchste Qualität erzielt wird. Die Kontrolle über die Prozessumgebung und die hohen Abscheidungsraten tragen zu einer unübertroffenen Gleichmäßigkeit und Ausbeute der Wafer bei und machen NOVELLUS CONCEPT One zur perfekten Wahl für fortschrittliche 3D-Verpackungs- und Interconnect-Anwendungen. Schließlich ist die zuverlässige, leicht wartbare Plattform von NOVELLUS CONCEPT ONE ideal für die Klein- und Großserienfertigung. Kurz gesagt, es bietet eine große Balance aus hoher Leistung, niedrigen Betriebskosten, schnellem Prozessaufbau und geringen Wartungsanforderungen. All dies ergänzt ein vielseitiges, modulares und dauerhaftes System, das perfekt für die fortschrittliche Halbleiterherstellung geeignet ist.
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