Gebraucht NOVELLUS CONCEPT One #9222493 zu verkaufen

NOVELLUS CONCEPT One
Hersteller
NOVELLUS
Modell
CONCEPT One
ID: 9222493
Wafergröße: 8"
System, 8".
NOVELLUS CONCEPT One ist ein Hochgeschwindigkeits-Plasma-verbesserter chemischer Dampfabscheidungsreaktor (PECVD). Dieser Reaktor ist so konzipiert, dass er eine Vielzahl von Abscheide-, Ätz- und Abscheideätzprozessen auf mehreren Wafern durchführt. Es bietet eine höhere Gleichmäßigkeit und bessere Prozesskontrolle als herkömmliche Techniken durch Plasmaaktivierung, Mehrfachzonenprozesse und dynamische adaptive Abstimmung. NOVELLUS CONCEPT ONE Reaktor besteht aus einer Vakuumkammer, einer Antennenanlage, einer Turbopumpe, einem HF-Generator und einem Schlitzventil. Innerhalb der Vakuumkammer werden die Reaktivgase, Wasserstoff, Stickstoff und Argon mit einer gewünschten Geschwindigkeit durch das Schlitzventil und in die Reaktionszone eingeleitet. Das Schlitzventil wird durch Luftdruck angetrieben und kann zur Regelung des Einlassgasstroms eingestellt werden. Die Hochfrequenz-Hochfrequenz (RF) erzeugt das zur Aktivierung des Prozessgases erforderliche Plasma und ist über ein Antennensystem mit dem Reaktor gekoppelt. Die Optimierung der Antenneneinheit erfolgt mit einer Frequenzübertragungstechnik. Dadurch kann der HF-Generator die Resonanzfrequenz der Antennenmaschine erkennen, was eine präzise Steuerung der Prozessparameter ermöglicht. Sobald der HF-Generator mit dem Antennenwerkzeug gekoppelt ist, wird die Turbo-Molekues-Pumpe verwendet, um den gewünschten Druck innerhalb der Vakuumkammer aufrechtzuerhalten. Die Pumpe entfernt die Prozessgasmoleküle aus der Kammer und ermöglicht eine präzise Einstellung des Drucks in der Kammer, wodurch die Wiederholbarkeit während des Prozesses aufrechterhalten wird. In der Verarbeitungskammer erzeugt der HF-Generator eine monochromatische Wellenenergie, die die Prozessgasmoleküle anregt. Die angeregten Moleküle reagieren dann miteinander zu einem dünnen Film auf dem Substrat. Die Wechselwirkung zwischen der Plasmaspezies, den Prozessgasen und dem Substrat kann durch Einstellung von Gleichspannungsvorspannung und Pulsdauer sowie Druck, Temperatur und Strömungsgeschwindigkeit der Prozessgase genau abgestimmt werden. CONCEPT One Reaktor ist ein vielseitiges, hocheffizientes Abscheidewerkzeug, das die Prozessgleichmäßigkeit verbessert und Wafer-zu-Wafer-Variabilität eliminiert. Seine Mehrzonenkonfiguration und dynamische adaptive Abstimmung ermöglicht eine präzise Steuerung und ermöglicht qualitativ hochwertige Abscheideprozesse fortschrittlicher Materialien. Es ist ideal für die fortschrittliche Produkt- und Prozessentwicklung und kann zur Herstellung von mikrostrukturierten und nanostrukturierten Komponenten verwendet werden.
Es liegen noch keine Bewertungen vor