Gebraucht NOVELLUS CONCEPT One #9224615 zu verkaufen

NOVELLUS CONCEPT One ist ein PECVD/CVD-Infrarot-induzierter Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition (PE-CVD) Reaktor, der die Niedertemperaturabscheidung von Dünnschichtschichten ermöglicht. Es wurde mit einer Kombination von Funktionen entworfen, so dass es eine flexible und zuverlässige Plattform für die Materialabscheidung in verschiedenen Branchen, einschließlich der Mikroelektronik-, Automobil- und Luftfahrtindustrie. Der Reaktor besteht aus mehreren Hauptkomponenten: der HF-Quelle, der Prozesskammer, der Prozessleiteinrichtung und dem Prozessroboter. Die HF-Quelle dient zur Erzeugung der Plasmaquelle, die während des Abscheidungsprozesses verwendet wird. Die Prozesskammer ist die Kammer, in der die Abscheidung stattfindet, und sie enthält typischerweise einen Substrathalter, eine untere Elektrode und ein gasförmiges Vorläuferabgabesystem. Die Prozesssteuerung dient zur Steuerung der Prozessparameter (z.B. Druck, Temperatur, Gasfluss) während des gesamten Abscheideprozesses. Der Prozessroboter ist für das Be- und Entladen von Probensubstraten und die Übertragung von Substraten innerhalb der Prozesskammer verantwortlich. Der Reaktor kann aufgrund seiner einzigartigen Bauweise eine sehr niedrige Temperaturabscheidung erreichen. Die untere Elektrode verwendet Tieftemperaturplasmen und die obere Elektrode Hochtemperaturplasmen. Während des Abscheidungsprozesses wird das Plasma der unteren Elektrode verwendet, um eine homogene Temperatur zu erzeugen, die gleichmäßige Abscheidungsergebnisse ermöglicht. Das Plasma der oberen Elektrode dient auch zur Verringerung der Oberflächenkontaktpunkttemperatur, was die Substrattemperatur während des Abscheideprozesses weiter reduziert. Um den Prozess weiter zu verbessern, ist NOVELLUS CONCEPT ONE mit einer fortschrittlichen Prozesssteuerungsmaschine ausgestattet. Dieses Werkzeug verwendet eine Reihe von Sensoren, um Prozessparameter zu überwachen, wie die Position jeder Elektrode, die Temperatur des Substrats, die Gasdurchflussrate usw. Dieses Asset kann dann zur Feinabstimmung der Prozessparameter nach Bedarf verwendet werden, um Wiederholbarkeit und optimale Abscheidungsergebnisse zu gewährleisten. Insgesamt ist CONCEPT One eine zuverlässige und flexible Abscheideplattform, die bei sehr niedrigen Temperaturen wiederholbare Abscheidungsergebnisse liefern kann. Das einzigartige Design, das fortschrittliche Prozesssteuerungsmodell und der werkzeuglose Betrieb machen es zu einer idealen Wahl für Anwendungen, die eine schnelle, niedrige Temperaturabscheidung von Dünnschichtschichten erfordern.