Gebraucht NOVELLUS CONCEPT One #9255441 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 9255441
Wafergröße: 6"
CVD System, 6"
8-Channels gas box
HORIBA MFC Calibrated
One arm robot
NG Pneumatic panel
Extended heated gate and throttle valve
Single end point detector
TRAZAR Match network: AMU2-1
Slotted heater block
Shower heads 8 stations
Wafer on paddle sensor: Optical
Non-contact pin search
Digital controller
Contact ceramic forks
Main AC
Remote AC
Mega Pak power supply
ELO Front monitor
VGA Maintenance monitor
Y2K Pentium computer
3.5 External drive
Post process audible alarm
Dual frequency
ADVANCED ENERGY PDX 1400 Low frequency generator
ADVANCED ENERGY RFG 3000 High frequency generator
Foot peddle.
NOVELLUS CONCEPT One ist ein fortschrittlicher CVD-Reaktor, der das Wachstum von Hochleistungs-Dünnschichtmaterialien ermöglicht. Es verfügt über branchenführende Prozessfähigkeiten und eine hocheffiziente Produktionssteuerung mit fortschrittlicher Steuerlogik-Software. NOVELLUS CONCEPT ONE besteht aus einer fortgeschrittenen oberen Kammer und einer unteren Kammer. Die obere Kammer ist mit einer Niederdruck-HF/DC-Plasmaquelle ausgestattet, die fortschrittliche Kompensations- und Strahlungskontrolltechnologien verwendet, um eine außergewöhnliche Gleichmäßigkeit über die Waferoberfläche zu gewährleisten. Die untere Kammer ist mit zwei Produktionsquellen zur direkten Bedampfung ausgestattet. Dies ermöglicht eine überlegene Dünnschichtabscheidung, die ideal für ICs, MEMS, LED und andere Geräte geeignet ist. CONCEPT One verfügt auch über einen Hochfrequenzgenerator (RF) zur Verwaltung von Plasmapulvern. Dies hilft, die Qualität der Produktion effektiv zu kontrollieren und den Produktschwund zu minimieren. Die vakuumdichte Kammer bietet verbesserte Abscheidungsleistung und Produktschutz sowie Prozessstabilität. CONCEPT ONE ist für ultimative Effizienz und Prozesskontrolle konzipiert und ermöglicht es, mit einer Reihe von Materialien wie Aluminium, Kupfer, Siliziumnitrid und Siliziumoxid zu arbeiten. So können Anwender Dünnschichten oder Nanostrukturen ablegen, die über den gesamten IC- und MEMS-Markt hohe Anforderungen erfüllen. Darüber hinaus verfügt NOVELLUS CONCEPT One über intelligente Temperatur- und Druckprofilierungssysteme zur Verbesserung des Abscheidungsprozesses. Neben der zuverlässigen Qualitätsproduktion und -prozessen bietet NOVELLUS CONCEPT ONE auch eine außergewöhnliche Kosteneffizienz. Die fortschrittliche CVD-Technologie und -Programmierung sowie das effiziente Produktionskontrollsystem sorgen für eine kostengünstige Dünnschichtabscheidung. Dies hilft Anwendern, Zykluszeiten und Materialkosten zu reduzieren und gleichzeitig eine qualitativ hochwertige Produktion zu erhalten. CONCEPT One ist ein zuverlässiger und effizienter CVD-Reaktor, der das Wachstum von Hochleistungs-Dünnschichtmaterialien ermöglicht. Es ist für ultimative Effizienz und Prozesssteuerung konzipiert und wird mit fortschrittlicher RF/DC-Plasmaquelle, zwei Produktionsquellen und einem Hochfrequenzgenerator geliefert. Es verfügt auch über intelligente Temperatur- und Druckprofilierungsfähigkeiten, Kosteneffizienz und Qualitätsniveau der Produktion, die die strengsten Anforderungen in der IC- und MEMS-Industrie erfüllen.
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