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NOVELLUS CONCEPT One
Hersteller
NOVELLUS
Modell
CONCEPT One
ID: 9262615
CVD System.
NOVELLUS CONCEPT One ist ein CVD-Reaktor (Chemical Vapor Deposition), der für eine gleichmäßige, wiederholbare Verarbeitung von Halbleiterbauelementen entwickelt wurde. Diese Maschine wurde erstmals 2004 eingeführt und ist zu einer beliebten Wahl für Halbleiter- und verwandte Industrien geworden. Seine Eigenschaften umfassen überlegene Prozesswiederholbarkeit und niedrige Betriebskosten. Seine Leistung wurde mit jeder nachfolgenden Version verbessert, mit aktuellen Designs, die einen höheren Durchsatz und eine bessere Prozesskontrolle bieten. Das Herzstück von NOVELLUS CONCEPT ONE ist seine Prozesskammer. Dies ist eine Edelstahl ausgekleidete Kammer mit vertieften Nuten ermöglicht die Platzierung von mehreren Prozess-Wafern. Die Kammer ist thermisch gesteuert und weist einen einstellbaren Druckbereich auf. Es ist auch mit einem schnellen Evakuierungssystem ausgestattet, mit dem die Kammer sofort evakuiert werden kann, was notwendig ist, um den Abscheidevorgang einzuleiten. CONCEPT One verfügt auch über eine Plasmaquelle, die verwendet wird, um den chemischen Dampfabscheidungsprozess zu initiieren. Diese Quelle erzeugt ein monatomisches Gas, auch Plasma genannt, das erwärmt und durch die Prozesskammer geleitet wird. Dieses Plasma wirkt mit dem gewünschten Material zusammen und leitet das Material auf den Wafer. Dieses Verfahren ist äußerst gleichmäßig, wobei jede Schicht in ihrer Dicke identisch ist. Weitere Merkmale von CONCEPT ONE sind die Prozessüberwachung und -steuerung sowie ein integriertes Datenerfassungssystem. Dieses Datenerfassungssystem ermöglicht eine Echtzeitbeobachtung des Abscheidungsprozesses, sodass Ingenieure den gesamten Prozess von Anfang bis Ende überwachen können. Kurz gesagt, NOVELLUS CONCEPT One ist ein zuverlässiges, kostengünstiges CVD-Tool, das überlegene Wiederholbarkeit und Prozesskontrolle bietet. Es ist ein sehr angesehenes Gerät, mit vielen Ingenieuren und Verfahrenstechnikern, die es für seine Flexibilität und hervorragende Ergebnisse empfehlen. Dies wiederum hat seine wiederholte Popularität in der Halbleiterindustrie sichergestellt.
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