Gebraucht NOVELLUS CONCEPT One #9270391 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 9270391
Wafergröße: 8"
Weinlese: 1995
CVD System, 8"
Process: Tungsten
Pentium 166 Computer
Front monitor
Front keyboard
Keyboard switch
Valve monitor
Signal tower
Gas valve monitor
EUROTHERM S08 Controller
No showerhead at station 0
Showerhead at station 1
Showerhead at station 2-5
Chamber:
Centering station
Pedestal 1
Pedestal 2-5
Ring hit assembly type: Ceramic tongs
Spindle type: Direct drive
Chamber view ports
No endpoint detector
TRAZAR AMU2-1 RF Marc bins network
KVOSAN RFK30-STI RF Generator
Module / System designation: CP1WV51
Vacuum system
TYLAN GENERAL Throttle valve controller
TYLAN GENERAL (Non heated) Throttle valve
Gate valve: VAT (Non heated)
TYLAN GENERAL 100 Torr manometer
TYLAN GENERAL 10 Torr manometer
TOKYO SEIDEN A-V Trance
Gas box configuration:
A1: Ar
A2: SiH4
A3 H2
A4: No
B1: Ar
B2: WF6
B3: C2F6
B4: N2
B5: N2
CI: Ar
1995 vintage.
NOVELLUS Concepts One (NC1) ist ein von NOVELLUS Systems Inc. Es ist Teil der Concept-Serie von epitaktischen Oxidationsreaktoren. Dieser Reaktor bietet eine breite Palette von Prozessfähigkeiten, einschließlich epitaktischer Abscheidung, Oxidation und Photoresist-Strippen. NC1 ist für die Verarbeitung von Halbleitersubstraten mit hoher Gleichmäßigkeit und Wiederholbarkeit ausgelegt. Das NC1 System verfügt über eine fortschrittliche Kammerarchitektur, die aus zwei nebeneinander angeordneten Reaktionskammern besteht. Die beiden Reaktionskammern sind über einen gemeinsamen Gaskrümmer und die außen freiliegende Ionenquelle verbunden. Diese einzigartige Anordnung ermöglicht ein hohes Maß an Kontrolle und Gleichmäßigkeit über mehrere Prozessschritte hinweg. Die Reaktoren sind in der Lage, sehr gleichmäßige Abscheidungsschichten von bis zu 2 Millimetern Dicke und mit ausgezeichneter Stufendeckung herzustellen. Die NC1 Einheit verwendet eine spezielle Hochleistungs-Software-Maschine namens Advanced Process Control (APC) Softwarepaket. Das APC-Tool bietet erweiterte Prozesssteuerungsfunktionen, indem es eine präzise Steuerung von Prozessparametern wie Kammerdruck, Temperatur, Abscheideraten und Gasströmen ermöglicht. Dadurch kann der Reaktor für eine Vielzahl von Anwendungen optimiert werden. Die NC1 Anlage ist für den Betrieb mit einer breiten Palette von Gaschemie und Druck ausgelegt. Dies ermöglicht den Einsatz unterschiedlichster Materialien in den Beschichtungsprozessen einschließlich hochwertigem Silizium, Germanium und Nitrid. Es ermöglicht auch den Einsatz spezialisierter Dielektrikum- und Oxidschichten, was eine höhere Prozessflexibilität ermöglicht. Der Reaktor kann eine ausgezeichnete Gleichmäßigkeit und Wiederholbarkeit von bis zu vier Zehntausendstel eines Angstroms (4 x 10-10) erreichen. Dies kombiniert mit der Flexibilität des APC-Softwarepakets macht das NC1 Modell zu einem der fortschrittlichsten Abscheide- und Oxidationssysteme auf dem Markt. Die NC1 Ausrüstung besteht aus hochwertigem Edelstahl und einer Inertgasumgebung, die die Betriebssicherheit erhöht und die Langlebigkeit des Systems gewährleistet. Das Gerät wird ferner durch eine Vielzahl von Alarmen und Sicherheitsverriegelungen geschützt, die den Betreiber über alle Prozess- oder Sicherheitsanomalien informieren. Die NC1 Maschine ist ein hochentwickeltes und zuverlässiges Abscheide- und Oxidationswerkzeug. Es bietet ausgezeichnete Prozesssteuerung, Wiederholbarkeit und Genauigkeit an und ist für eine breite Reihe von Hochleistungshalbleiterherstellungsanwendungen ideal.
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