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NOVELLUS CONCEPT One
Hersteller
NOVELLUS
Modell
CONCEPT One
ID: 9364375
System.
NOVELLUS CONCEPT One ist ein hochmoderner CVD-Reaktor (Chemical Vapor Deposition), der für verbesserte Produktionsausbeuten und einen verbesserten Durchsatz im Halbleiterfab-Prozess entwickelt wurde. Der Reaktor verwertet einen einzigartigen, gasphasigen Unterdruckabsetzungsprozess, wodurch verschiedene Formen von chemischen Zusammensetzungen verwendet werden, um sowohl SiO2 reaktive als auch Schutzschichten Oblaten von ON Semiconductor zu bilden. Zu den Hauptmerkmalen des Geräts gehören eine zweizonige einstufige Reaktionskammer, ein Soft-Start-Ventilsystem, ein programmierbares Impulsventil und eine gepulste Gaseinspritzeinheit, die es ermöglichen, konsistente, hochwertige chemische und physikalische Ergebnisse zu liefern. Die Reaktionskammer besteht aus zwei verschiedenen Zonen, die durch eine Reihe von Leitblechen getrennt sind, um den Prozessfluss zu steuern. Die erste Zone besteht aus dem Bereich, in dem chemische Verbindungen in die Reaktionskammer eingespritzt werden, und die zweite Zone ist, wo die Verbindungen umgesetzt und auf den Wafer abgeschieden werden. Dies gibt dem Anwender mehr Kontrolle über die Reaktionsbedingungen bei Abscheideprozessen und verbessert die Verarbeitungseffizienz, verkürzt die Prozesszeiten und verbessert die Ausbeuten aus dem Reaktor. Die Soft-Start-Ventilmaschine sorgt für eine allmähliche Erhöhung des Prozessdrucks, was eine höhere Flexibilität während der Bearbeitung ermöglicht, was zu verbesserten Ergebnissen des Werkzeugs führt. Sie verhindert auch mögliche Prozessdurchsatzschwankungen, da innerhalb des Reaktors kein plötzlicher Druckanstieg auftreten kann. Das programmierbare Impulsventil ist dazu ausgelegt, Chemikalien sehr präzise und zeitnah einzuspritzen, um die Reaktionsbedingungen in der Kammer genau zu steuern, was zu einer verbesserten Gleichmäßigkeit der Waferdicke führt. Das Pulsventil in Kombination mit der gepulsten Gaseinspritzanlage ermöglicht es den Anwendern, die Abgabe von Gasen und Chemikalien genau zu zeitlich zu zeiten.So können sie die Verarbeitungsbedingungen leicht anpassen, um die Geräteleistung zu optimieren. NOVELLUS CONCEPT ONE wurde entwickelt, um Anwendern die Möglichkeit zu geben, sowohl Serienproduktionen in niedrigen und hohen Stückzahlen durchzuführen, bei gleichbleibender Leistung und Zuverlässigkeit. Der Reaktor ist in der Lage, eine breite Palette von Wafergrößen zu handhaben, sowie Varianzen in der Wafergeometrie, so dass Benutzer die Flexibilität, Geräte in verschiedenen Größen und Formen zu produzieren. Insgesamt ist CONCEPT One ein sehr vielseitiger und zuverlässiger CVD-Reaktor zur Herstellung von Wafern, der den Anwendern verbesserte Effizienz, kürzere Prozesszeiten und überlegene Erträge bietet.
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