Gebraucht NOVELLUS Inova NExT #9281285 zu verkaufen

NOVELLUS Inova NExT ist ein Mehrkammer-CVD-Reaktor (Chemical Vapor Deposition), der speziell entwickelt wurde, um hochdichte Strukturen mit fortschrittlichen Materialien und Prozessen herzustellen. Diese fortschrittliche Ausrüstung bietet eine beispiellose Produktionskapazität für Halbleiterchips der nächsten Generation und Hochleistungselektronik-Anwendungen. Inova NExT CVD Reaktor besteht aus mehreren unabhängig gesteuerten Kammern und ist modular aufgebaut. Durch die Konstruktion können mehrere CVD-Prozesse nacheinander oder gleichzeitig ausgeführt werden. Dies ermöglicht maximale Prozessflexibilität und Effizienz in F & E-Anwendungen und die Herstellung fortschrittlicher Gerätestrukturen für maximale Ertragsoptimierung. NOVELLUS Inova NExT CVD-Reaktor verwendet einen fortschrittlichen, tauchgekühlten, ultradünnen Waferträger, der eine minimale Wärmeverzerrung des Substrats während der Verarbeitung ermöglicht. Das fortschrittliche Waferträgerdesign beinhaltet das Ausschwenken des Substrats. Darüber hinaus ermöglicht das fortschrittliche Design den Herstellern, präzise Temperaturregelungsfunktionen in jeder Kammer zu schaffen und die Prozessgenauigkeit und Steuerbarkeit zu erhöhen. Der Inova NExT CVD-Reaktor ist mit hochleistungsfähigen horizontalen und vertikalen Schlitzen ausgestattet, die eine Materialabscheidung auf beiden Seiten des Substrats ermöglichen. Dies ermöglicht eine höhere Materialgleichförmigkeit über das Substrat, was direkt zu geringeren Fehlerdichten und höherwertigen Vorrichtungen und Strukturen führt. Darüber hinaus bietet die vertikale Ausrichtung der Zahl Vorteile für eine fortschrittliche Materialabscheidung, einschließlich einer verbesserten Lückenfüllung von Tiefgrabenanwendungen. Der NOVELLUS Inova NExT CVD-Reaktor ist mit einem ausgeklügelten Steuerungssystem und ultrareaktiven Sensoren ausgestattet und bietet höchste Prozessleistung. Die ausgeklügelte Steuereinheit bietet eine einzigartige Genauigkeit der Durchflussregelung und Temperatureinstellung in jeder Kammer, was den Durchsatz und die Leistung erhöht. Inova NExT CVD Reaktor bietet die neuesten Fortschritte in der Entwicklung und Produktion von Prozesshalbleitern. Diese fortschrittliche Maschine bietet das ultimative Maß an Wiederholgenauigkeit, Steuerbarkeit, Durchsatz und Wirtschaftlichkeit für Hochleistungs-Halbleiteranwendungen. Darüber hinaus bietet das Tool eine hervorragende Umweltleistung mit vollständiger Betriebs- und Sicherheitskonformität in Reinraumumgebungen.