Gebraucht NOVELLUS Inova XT #293757055 zu verkaufen
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ID: 293757055
Wafergröße: 12"
PVD System, 12"
Mainframe
EFEM
(6) Chambers
(4) AC Racks
(14) RF Racks
Power rack.
NOVELLUS Inova XT ist eine Hochdurchsatz-Reaktoranlage mit hoher Produktivität, die ein Katalysator in der ultradünnen dielektrischen Abscheidungsindustrie ist. Es ist für die Abscheidung von dielektrischen Folien wie einzigartigen kohlenstoffdotierten Siliziumdioxidfolien und Hafniumbasisfolien konzipiert und optimiert. Es bietet die höchste Produktivität und niedrigste Betriebskosten jedes Systems und kann die höchste Filmqualität mit den niedrigsten Kosten pro Wafer produzieren. Inova XT verwendet einen fortschrittlichen plasmaverbesserten PECVD-Prozess (Chemical Vapor Deposition), um die dünnen Filme abzuscheiden. Das Gerät verwendet eine Niederdruck-Prozesskammer, HF-Spulen und eine patentierte High-Fidelity-Mikrowellenliefermaschine, um eine homogene Plasmaerzeugung zu gewährleisten. Dadurch können beste Gleichmäßigkeit und Folieneigenschaften erreicht werden, die bei der Herstellung dünner dielektrischer Folien wesentliche Anforderungen stellen. NOVELLUS Inova XT enthält auch mehrere einzigartige Funktionen, darunter ein fortschrittliches pulsbelastetes Substratunterstützungs- und Metrologiewerkzeug, fortschrittliche' Wärmeaustausch'- und 'Ausdauer' -Technologien und eine hocheffiziente' Cool Burn '-Tiegelanlage. Diese Eigenschaften ermöglichen eine ultradünne Filmabscheidung mit ausgezeichneter Filmgleichmäßigkeit und fehlerfreier Leistung. Inova XT-Modell bietet auch eine breite Palette von Prozesssteuerungen, Flexibilität und Überwachungsfunktionen. Die integrierte Benutzeroberfläche ermöglicht Fern- oder Vor-Ort-Management und eignet sich somit ideal für Produktionsläufe oder Prozessoptimierungsexperimente. Darüber hinaus verfügt es über eine breite Palette von Prozessrezepten, so dass es mehrere Filmtypen und -prozesse aufnehmen kann. Insgesamt bietet NOVELLUS Inova XT höchste Leistung, Produktivität und Prozesskontrolle in seiner Klasse. Seine fortschrittlichen Eigenschaften und sein robustes Design machen es zur idealen Wahl für Hersteller, die nach der ultimativen Dünnschichtabscheidung suchen. Es ist gut geeignet für eine breite Palette von ultradünnen dielektrischen Abscheidungsanwendungen und bietet eine ausgezeichnete Rendite.
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