Gebraucht NOVELLUS Inova XT #293818927 zu verkaufen
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ID: 293818927
Wafergröße: 12"
PVD System, 12"
BROOKS MAG7 Robots
NOVELLUS MC3 Module controller
PFEIFFER Turbo controller
3 CTI / HILEX / BROOKS Cryo pump
BROOKS FOUP Cassette wafer loader
VAT Throttle valve
VAT Controllers
AE PDX 5000 RF Generator
AE RFG 5500 RF Generator
MKS RF Generator
DC Power supply
Right degas chamber
PVD Chamber
Preclean chamber
Left degas chamber
Transfer module, dual blade.
NOVELLUS Inova XT ist ein fortschrittlicher Waferreaktor, der die höchste Ätzleistung bei optimaler Prozesswiederholbarkeit liefert. Insbesondere ist Inova XT ein Reaktor auf Einwafer-Plasmabasis, der Materialien mit außergewöhnlicher Präzision abscheiden und ätzen kann und die höchste Präzisionsherstellung von Gerätegeometrien während der Produktionszyklen ermöglicht. NOVELLUS Inova XT verwendet ein hochentwickeltes und integriertes System, um Prozessvariationen zu reduzieren. Der Reaktor besteht aus zwei unabhängigen Modulen: einer Plasmaquelle und einer hochauflösenden Prozesskammer. Das Plasmaquellenmodul verwendet eine zentral montierte ECR (electron cyclotron resonance) -Quelle, um Plasma effizient zu erzeugen, um Materialien abzuscheiden und zu ätzen. Ein InnovusTM Filter legt die Frequenz der Quelle in einem bestimmten Bereich fest, um Plasma-erzeugte Störungen und Inhomogenitäten zu reduzieren. Dadurch wird sichergestellt, dass das erzeugte Plasma gleichmäßiger, berechenbarer und zuverlässiger ist und einen stark wiederholbaren Herstellungsprozess gewährleistet. Inova XT enthält auch eine fortschrittliche Prozesskammer, die eine Kombination aus genauer HF-Lieferung und unabhängiger Wafer-Positionskontrolle verwendet, um Materialien genau abzulegen und zu ätzen. Die Kammer verwendet eine Reihe von Elektroden oder ECR-Quellen, um HF-Energie genau auf den Wafer zu leiten. Diese präzise HF-Lieferung wird mit fortschrittlicher Prozesskontrollsoftware gekoppelt, um höchste Präzision bei Ätz- und Abscheideprozessen zu gewährleisten. Darüber hinaus verfügt jede Prozesskammer über eine eigene, unabhängig gesteuerte Waferstufe, die eine optimierte Prozeßaufgabenplanung für jeden einzelnen Wafer ermöglicht. NOVELLUS Inova XT verfügt auch über fortschrittliche Sicherheitsprotokolle, um die Sicherheit des Bedieners zu gewährleisten. Das System ist mit Sensoren und Abgassystemen ausgestattet, die Plasmadichte, Prozessdruck, Temperatur und andere Prozesse überwachen. Wenn einer dieser Parameter die maximal zulässigen Grenzwerte überschreitet, wird das System automatisch heruntergefahren und unterstützt die erstklassige Prozesssteuerung und Zuverlässigkeit. Um die höchste Prozesswiederholbarkeit und -sicherheit zu gewährleisten, bietet Inova XT eine Reihe von Upgrade-Optionen wie Präzisionsprozesssteuerungssoftware und HF-Liefersysteme, fortschrittliche Plasmaquellenfilter, verbesserte Wärmeübertragungsstrahlung und fortschrittliche Sicherheitssysteme. NOVELLUS Inova XT ist die ideale Lösung für Hersteller, die mit anspruchsvollen Materialien und hochpräzisen Anforderungen arbeiten.
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